Electrodeposition of Al alloys by effectively utilizing water

有效利用水电沉积铝合金

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塩化タングステン水和物を用いたアルミニウムータングステン合金電析における水和水の影響
水合水对水合氯化钨电沉积铝钨合金的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    竹内芳州;東野昭太;三宅正男;池之上卓己;平藤哲司
  • 通讯作者:
    平藤哲司
Dissolution Behavior of Hydrated Tungsten Chlorides in Chloroaluminate Ionic Liquids and Its Application in Aluminum-Tungsten Alloy Electrodeposition
水合氯化钨在氯铝酸盐离子液体中的溶解行为及其在铝钨合金电沉积中的应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yoshikazu Takeuchi;Shota Higashino;Masao Miyake;Takumi Ikenoue;Tetusji Hirato
  • 通讯作者:
    Tetusji Hirato
アルミニウムータングステン合金電析のための塩化アルミニウム系イオン液体における塩化タングステン水和物の溶存状態の解明
铝钨合金电沉积用氯化铝基离子液体中氯化钨水合物溶解状态的阐明
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    竹内芳州;東野昭太;三宅正男;池之上卓己;平藤哲司
  • 通讯作者:
    平藤哲司
Toward Tungsten Electrodeposition at Moderate Temperatures Below 100°C Using Chloroaluminate Ionic Liquids
使用氯铝酸盐离子液体在低于 100°C 的中等温度下进行钨电沉积
  • DOI:
    10.1149/1945-7111/accfc4
  • 发表时间:
    2023
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.9
  • 作者:
    Higashino Shota;Takeuchi Yoshikazu;Miyake Masao;Sakai Takuma;Ikenoue Takumi;Tane Masakazu;Hirato Tetsuji
  • 通讯作者:
    Hirato Tetsuji
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Higashino Shota;Abbott Andrew P.;Miyake Masao;Hirato Tetsuji;中嶋祥太,伊藤 慎吾,小笠原正剛,齊藤寛治,加藤純雄;小笠原正剛,青木正裕,小林萌香,齊藤寛治,加藤純雄
  • 通讯作者:
    小笠原正剛,青木正裕,小林萌香,齊藤寛治,加藤純雄
Electrodeposition of Aluminum–Tungsten Alloy Films Using EMIC–AlCl<sub>3</sub>–W<sub>6</sub>Cl<sub>12</sub> Ionic Liquids of Different Compositions
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    10.2320/matertrans.m2018051
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.2
  • 作者:
    Higashino Shota;Miyake Masao;Fujii Hisashi;Takahashi Ayumu;Kasada Ryuta;Hirato Tetsuji
  • 通讯作者:
    Hirato Tetsuji

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