積層薄膜構造導入による次世代超伝導加速空洞開発のための新成膜手法の開発
通过引入层压薄膜结构开发一种新的薄膜沉积方法,用于开发下一代超导加速腔
基本信息
- 批准号:23H00125
- 负责人:
- 金额:$ 31.62万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
- 财政年份:2023
- 资助国家:日本
- 起止时间:2023-04-01 至 2026-03-31
- 项目状态:未结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
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会议论文数量(0)
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$ 31.62万 - 项目类别:
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