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有機半導体融液の流動と成膜
有机半导体熔体流动及成膜
基本信息
- 批准号：23K04582
- 负责人：
- 金额：$ 3万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2023
- 资助国家：日本
- 起止时间：2023-04-01 至 2026-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
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会议论文数量（0）
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- 发表时间：
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電荷-励起子変換分子システムの創成
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- 批准号：
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分子配向と結晶成長を指向した有機半導体成膜法の開発と有機トランジスタへの応用
面向分子取向和晶体生长的有机半导体成膜方法的开发及其在有机晶体管中的应用
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超高速成膜法を利用した高エネルギー積・サブミリ厚磁石膜の開発と応用
超高速薄膜沉积法高磁能积/亚毫米厚磁性薄膜的开发与应用
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Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
気相成長ナノ粒子直接照射による酸化物ナノコンポジット機能材の低温高速成膜法の開発
开发气相生长纳米颗粒直接照射低温高速沉积氧化物纳米复合功能材料的方法
- 批准号：
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Grant-in-Aid for Exploratory Research
高速噴射成膜法(パウダージェットデポジッション法)による歯質再構築
使用高速薄膜沉积法（粉末喷射沉积法）重建牙齿结构
- 批准号：
15659458 - 财政年份：2003
- 资助金额：
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干渉パターニング光アシスト成膜法による2次元磁性フォトニック結晶の作製
干涉图案光辅助沉积法制备二维磁性光子晶体
- 批准号：
14750244 - 财政年份：2002
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Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
湿式成膜法による高飽和磁束密度を有する軟磁性薄膜の作製
湿式成膜法制备高饱和磁通密度软磁薄膜
- 批准号：
14750560 - 财政年份：2002
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)