表面结构化学转移法形成的超低反射率硅的性能-猫眼课题宝

表面结构化学转移法形成的超低反射率硅的性能

批准号：

15H01997

负责人：

Kobayashi Hikaru

金额：

$27.12万

依托单位：

Osaka University

依托单位国家：

日本

项目类别：

Grant-in-Aid for Scientific Research (A)

财政年份：

2015

资助国家：

日本

项目状态：

已结题

起止时间：

2015-04-01 至 2018-03-31

来源：

https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-15H01997/

关键词：

シリコンナノクリスタル層屈折率勾配太陽電池 graded band-gap構造ナノ材料表面・界面物性表面パッシベーション反射率結晶シリコンシリコンナノクリスタルネットワーク構造屈折率化学的転写法傾斜構造マイクロ、ナノデバイス傾斜材料

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Achievement of 20% conversion efficiency from simple structure crystalline Si solar cells fabricated by use of surface structure chemical transfer method

成就%20of%2020%%20转换%20效率%20来自%20简单%20结构%20晶体%20Si%20太阳能%20电池%20制造%20by%20使用%20of%20表面%20结构%20化学%20转移%20方法

DOI： --

发表时间： 2017

期刊：

影响因子： --

作者：

[Tsunoyama Hironori, Ito Haruchika, Komori Masafumi, Kobayashi Ryota, Shibuta Masahiro, Eguchi Toyoaki, Nakajima Atsushi, 岡野定正弘, Hikaru Kobayashi]

通讯作者： Hikaru Kobayashi

化学的転写法により形成した極低反射Si表面の光学特性と、高効率太陽電池への応用

化学转移法形成的超低反射硅表面的光学特性及其在高效太阳能电池中的应用

DOI： --

发表时间： 2016

期刊：

影响因子： --

作者：

[M. Tsujimoto, I. Kakeya, T. Kashiwagi, H. Minami, and K. Kadowaki, 今村哲也, 今村健太郎，入鹿大地，鬼塚裕也，小林光]

通讯作者：今村健太郎，入鹿大地，鬼塚裕也，小林光

Multifractal analysis and optical properties of nanostructured silicon layers

DOI： 10.1016/j.apsusc.2016.04.059

发表时间： 2017-02-15

期刊：

APPLIED SURFACE SCIENCE

影响因子： 6.7

作者：

[Jurecka, Stanislav, Matsumoto, Taketoshi, Kobayashi, Hikaru]

通讯作者： Kobayashi, Hikaru

化学的転写法により形成した極低反射率をもつSiナノクリスタル層/Si構造の光学特性

化学转移法形成的硅纳米晶层/极低反射率硅结构的光学特性

DOI： --

发表时间： 2015

期刊：

影响因子： --

作者：

[1.K. Kadowaki, J-L. Zhong, T. Ohta, Y. Tanabe, K. Murayama, K. Nakamura, G. Kuwano, T. Imai, T. Shimizu, S. Ohtsuki, Y. Ono, S. Kusunose, S. Nakagawa, M. Tsujimoto, H. Minami, T. Kashiwagi and T. Yamamoto, H. T. Miyazaki, 今村健太郎，入鹿大地，野中啓章，小林光]

通讯作者：今村健太郎，入鹿大地，野中啓章，小林光

Ｓｌｏｖａｃ Academy of Science/Zilina University(スロバキア)

斯洛伐克科学院/日利纳大学（斯洛伐克）

DOI： --

发表时间：

期刊：

影响因子： --

作者：

[]

通讯作者：