深紫外近接場分光による超ワイドギャップ半導体の物性解明

使用深紫外近场光谱阐明超宽带隙半导体的物理性质

基本信息

  • 批准号:
    15H02013
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 9.15万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 财政年份:
    2015
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2015-04-01 至 2016-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究は,深紫外(波長:210~300nm)領域で分光計測が可能な近接場光学顕微鏡(SNOM)技術を開発し,AlGaNナノ構造,BN系半導体,ダイヤモンドなどの超ワイドギャップ半導体における励起子や励起子分子などのキャリア素励起(準粒子)の空間・時間ダイナミクスを明らかにすることを目的に,平成27年度より研究をスタートした。しかしながら,開始から数か月で基盤研究(S)に採択されたため,規定によって交付決定の一部取り消しを行うこととなった。このような事情のため,研究実施はごく短期間ではあったが,深紫外SNOMファイバープローブについて,ファイバー材質と形状の最適化によって波長200nmまでの高透過率特性を実験的に検証することに成功しており,所期の目的の一部を達成することができた。
This study youdaoplaceholder7 deep ultraviolet (wavelength:) In the field of 210-300nm, で spectrophotometer measurement が may な near-field optics 顕 micromirror (SNOM) technology を development で, AlGaNナノ structure, BN series semiconductors ダ イ ヤ モ ン ド な ど の super ワ イ ド ギ ャ ッ プ semiconductor に お け る excitation screwdriver や excitation screwdriver molecular な ど の キ ャ リ wound up (must) particle の ア element space, time ダ イ ナ ミ ク ス を Ming ら か に す る こ と に を purpose, pp.47-53 27 annual よ り research を ス タ ー ト し た. し か し な が ら, start か ら number で か month base plates (S) に mining 択 さ れ た た め, regulation に よ っ て delivery decision の take a り し elimination line を う こ と と な っ た. こ の よ う な things の た め, research be applied は ご く during short で は あ っ た が, deep uv SNOM フ ァ イ バ ー プ ロ ー ブ に つ い て, フ ァ イ バ ー material と optimal shape の に よ っ て wavelength of 200 nm ま で の high transmittance characteristics を be 験 of に 検 card す る こ と に successful し て お り, The purpose of the first を is to achieve する とがで とがで た た.

项目成果

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  • 通讯作者:
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