Nanotuning of silica-based membranes with thin-film processing
Nanotuning of silica-based membranes with thin-film processing
通过薄膜加工对二氧化硅基膜进行纳米调谐
批准号：
15H02313
负责人：
Tsuru Toshinori
金额：
$28.7万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2018-03-31
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DOI：
10.1016/j.memsci.2016.11.006
发表时间：
2017-02
期刊：
Journal of Membrane Science
影响因子：
9.5
作者：
[M. Kanezashi;Rui Matsugasako;H. Tawarayama;Hiroki Nagasawa;T. Tsuru]
通讯作者：
M. Kanezashi;Rui Matsugasako;H. Tawarayama;Hiroki Nagasawa;T. Tsuru
Preparation of POSS derivatives by the dehydrogenative condensation of T<sub>8</sub><sup>H</sup> with alcohols
T<sub>8</sub><sup>H</sup>与醇脱氢缩合制备POSS衍生物
T<sub>8</sub><sup>H</sup>与醇脱氢缩合制备POSS衍生物
DOI：
10.2109/jcersj2.123.739
发表时间：
2015
期刊：
Journal of the Ceramic Society of Japan
影响因子：
1.1
作者：
[Satoru Tsukada, Yusuke Sekiguchi, Shoto Takai, Yoshimoto Abe, Takahiro Gunji]
通讯作者：
Takahiro Gunji
Carbon Monoxide Addition to Ruthenium-Dithiolene Complex and Polysiloxane Hybrid Film Formation
一氧化碳加成到钌-二硫醇络合物和聚硅氧烷杂化膜的形成
一氧化碳加成到钌-二硫醇络合物和聚硅氧烷杂化膜的形成
DOI：
10.1002/asia.201500617
发表时间：
2015
期刊：
Chemistry-An Asian Journal
影响因子：
4.1
作者：
[Satoru Tsukada, Takuya Sagawa, Takahiro Gunji]
通讯作者：
Takahiro Gunji
ゾル－ゲル法によるPOSSを利用した元素ブロック高分子の合成
采用溶胶-凝胶法使用 POSS 合成元素嵌段聚合物
采用溶胶-凝胶法使用 POSS 合成元素嵌段聚合物
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
セラミックス
影响因子：
--
作者：
[N. M. Phuong, Y. Sutou, J. Koike, 郡司天博]
通讯作者：
郡司天博
Preparation of metal complex-containing polysiloxane or polysilsesquioxane films
含金属络合物的聚硅氧烷或聚倍半硅氧烷薄膜的制备
含金属络合物的聚硅氧烷或聚倍半硅氧烷薄膜的制备
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[阿部 高之, 塚田 学, 山本 一樹, 郡司 天博, Satoru Tsukada]
通讯作者：
Satoru Tsukada
共 55 条
Development of novel SiO2-based membranes and their application to catalytic membrane reactors for process intensification
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批准号：18H03855
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额：$28.29万
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财政年份：2018
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负责人：Tsuru Toshinori
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依托单位：
Flexible ceramic membranes via polymer-supported organosilica layered-hybrid structure
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批准号：15K14207
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项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额：$2.5万
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财政年份：2015
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负责人：Tsuru Toshinori
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依托单位：
Photo-induced sol-gel processing for low-temperature fabrication of high-performance silsesquioxane membranes for use in molecular separation
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批准号：25630345
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项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额：$2.58万
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财政年份：2013
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负责人：Tsuru Toshinori
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依托单位：
海外基金