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Creation of spin-coupling technology suitable for Si quantum bit integration

Creation of spin-coupling technology suitable for Si quantum bit integration
创建适合硅量子位集成的自旋耦合技术
批准号:
17H01276
负责人:
Yasuda Tetsuji
金额:
$28.37万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份:
2017
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2017-04-01 至 2020-03-31

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Effect of post-implantation annealing on Al?N isoelectronic trap formation in silicon: Al?N pair formation and defect recovery mechanisms
注入后退火对硅中 Al?N 等电子陷阱形成的影响:Al?N 对形成和缺陷恢复机制
DOI: 10.1063/1.5030795
发表时间: 2018
期刊: AIP Advances
影响因子: 1.6
作者: [Mori Takahiro, Morita Yukinori, Matsukawa Takashi]
通讯作者: Matsukawa Takashi
Spin qubits based on silicon tunnel field-effect transistors
基于硅隧道场效应晶体管的自旋量子位
DOI: --
发表时间: 2019
期刊:
影响因子: --
作者: [Tsubasa Nakashima, Kazuki Watatani, Kyohei Terao, Fusao Shimokawa, Hidekuni Takao, 田川義之, 羽根一博(分担執筆), H. Tabata, Satoshi Moriyama]
通讯作者: Satoshi Moriyama
DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
作者: [森貴洋, 森山悟士, 松川貴, 安田哲二, 大野圭司]
通讯作者: 大野圭司
Development of Simulation System for Semiconductor Qubit Design based on Technology Computer Aided Design
基于计算机辅助设计技术的半导体量子位设计仿真系统开发
DOI: --
发表时间: 2019
期刊:
影响因子: --
作者: [Hidehiro Asai, Shota Iizuka, Junichi Hattori, Koichi Fukuda, and Takahiro Mori]
通讯作者: and Takahiro Mori
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