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Development of single nano materials based on quantum beam and data science

基于量子束和数据科学的单纳米材料的开发

基本信息

批准号：
18H03895
负责人：
Kozawa Takahiro
金额：
$ 27.96万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
起止时间：
2018-04-01 至 2023-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（62）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Pattern formation mechanism of zirconia nanoparticle resist used for extreme-ultraviolet lithography

极紫外光刻用纳米氧化锆抗蚀剂图形形成机理

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
T. Kozawa;T. Yamada;S. Ishihara;H. Yamamoto;Y. Muroya;J. J. Santillan;and T. Itani
通讯作者：
and T. Itani

Stochasticity in EUV lithography

EUV 光刻的随机性

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
T. Kozawa;J. J. Santillan;and T. Itani
通讯作者：
and T. Itani

Synthesis of hyperbranched polyacetals containing C-(4-t-butylbenz)calix[4]resorcinarene: Resist properties for extreme ultraviolet (EUV) lithography

含有 C-(4-t-丁基苯并)杯[4]间苯二酚的超支化聚缩醛的合成：极紫外 (EUV) 光刻的抗蚀性能

DOI：
10.1016/j.reactfunctpolym.2018.08.013
发表时间：
2018
期刊：
Reactive and Functional Polymers
影响因子：
5.1
作者：
Kudo Hiroto;Fukunaga Mari;Shiotsuki Kohei;Takeda Hiroya;Yamamoto Hiroki;Kozawa Takahiro;Watanabe Takeo
通讯作者：
Watanabe Takeo

Defect Risks in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography

用于极紫外光刻的化学增强抗蚀剂的缺陷风险

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
中村直人;Takahiro Kozawa
通讯作者：
Takahiro Kozawa

Stochastic Effects in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography

用于极紫外光刻的化学放大光刻胶的随机效应

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
堀岡正崇;荒川　雅;南川賢人;西川享佑;河野知生;寺嵜　亨;T. Kozawa
通讯作者：
T. Kozawa

DOI：
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作者：
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作者：
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作者：
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Kozawa Takahiro其他文献

Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resist by adding diphenyl sulfone derivatives

添加二苯砜衍生物提高化学放大型 EUV 光刻胶的灵敏度

DOI：
10.1117/12.2551865
发表时间：
2020
期刊：
Proc. SPIE, Advances in Patterning Materials and Processes XXXVII
影响因子：
0
作者：
Okamoto Kazumasa;Kawai Shunpei;Kozawa Takahiro
通讯作者：
Kozawa Takahiro

摂食シグナルを受容する胆汁酸受容体TGR5

接收进食信号的胆汁酸受体 TGR5

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
実験医学
影响因子：
0
作者：
Murakami Yoshiyuki;Ishiwari Fumitaka;Okamoto Kazumasa;Kozawa Takahiro;Saeki Akinori;佐藤隆一郎
通讯作者：
佐藤隆一郎

デュアルコム分光のための近赤外光周波数コムの可視化

用于双梳光谱的近红外光学频率梳的可视化

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kudo Hiroto;Fukunaga Mari;Yamada Teppei;Yamakawa Shinji;Watanabe Takeo;Yamamoto Hiroki;Okamoto Kazumasa;Kozawa Takahiro;加藤英毅，池田孝介，佐藤航己，郷治侑真，大久保章，稲場肇，吉井一倫，洪鋒雷
通讯作者：
加藤英毅，池田孝介，佐藤航己，郷治侑真，大久保章，稲場肇，吉井一倫，洪鋒雷

高圧相α-PbO2型TiO2エピタキシャル薄膜の平坦化

高压相α-PbO2型TiO2外延薄膜的平坦化

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Azumagawa Kazuki;Kozawa Takahiro;笹原悠輝
通讯作者：
笹原悠輝

Ultrafast　vibrational dynamics at lipid/ water interfaces　studied by 2D HD-VSFG spectroscopy

通过 2D HD-VSFG 光谱研究脂质/水界面的超快振动动力学

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kudo Hiroto;Fukunaga Mari;Shiotsuki Kohei;Takeda Hiroya;Yamamoto Hiroki;Kozawa Takahiro;Watanabe Takeo;Tahei Tahara
通讯作者：
Tahei Tahara