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Study on nanochemistry in latest nanofabrication materials using quantum beams

利用量子束研究最新纳米加工材料的纳米化学

基本信息

批准号：
25246036
负责人：
Kozawa Takahiro
金额：
$ 29.04万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份：
2013
资助国家：
日本
起止时间：
2013-04-01 至 2018-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（46）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Stochastic Effect on Contact Hole Imaging of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists

化学放大极紫外光刻胶接触孔成像的随机效应

DOI：
10.7567/jjap.52.086501
发表时间：
2013
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
0
作者：
Masaaki Nagatsu;Anchu Viswan;Tomy Abuzairi;Mitsuru Okada;Kuniaki Sugiura;Retno W. Purnamaningsih;and Nji R. Poespawat;木村拓也;T. Kozawa and T. Hirayama
通讯作者：
T. Kozawa and T. Hirayama

Stochastic effects in chemically amplified resists

化学放大抗蚀剂中的随机效应

DOI：
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
0
作者：
S. Kishimoto;T. Mitsui;R. Haruki;Y. Yoda;S. Shimazaki;M. Saito;M. Ikeno;and M. Tanaka;長嶋智典，勝俣洋典，浜屋宏平，宮尾正信，澤野憲太郎;T. Kozawa
通讯作者：
T. Kozawa

Effects of diffusion constant of photodecomposable quencher on chemical gradient of chemically amplified extreme-ultraviolet resists

光分解猝灭剂扩散常数对化学放大极紫外光刻胶化学梯度的影响

DOI：
10.7567/jjap.54.056502
发表时间：
2015
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
0
作者：
T. Kozawa
通讯作者：
T. Kozawa

Dynamics of radical cations of poly(4-hydroxystyrene) in the presence and absence of triphenylsulfonium triflate as determined by pulse radiolysis of its highly concentrated solution

通过脉冲辐射分解高浓度溶液测定聚（4-羟基苯乙烯）在三苯锍三氟甲磺酸盐存在和不存在下的自由基阳离子动力学

DOI：
10.1016/j.cplett.2016.05.058
发表时间：
2016
期刊：
Chem. Phys. Lett.
影响因子：
0
作者：
K. Okamoto;T. Ishida;H. Yamamoto;T. Kozawa;R. Fujiyoshi;and K. Umegaki
通讯作者：
and K. Umegaki

Theoretical Relationship between Quencher Diffusion Constant and Image Quality in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography

用于极紫外光刻的化学放大抗蚀剂中猝灭剂扩散常数与图像质量之间的理论关系

DOI：
10.7567/jjap.52.076504
发表时间：
2013
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
0
作者：
M. Yamazaki;J. Adachi;T. Teramoto;A. Yagishita;T. Kozawa
通讯作者：
T. Kozawa

DOI：
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作者：
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Kozawa Takahiro其他文献

Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resist by adding diphenyl sulfone derivatives

添加二苯砜衍生物提高化学放大型 EUV 光刻胶的灵敏度

DOI：
10.1117/12.2551865
发表时间：
2020
期刊：
Proc. SPIE, Advances in Patterning Materials and Processes XXXVII
影响因子：
0
作者：
Okamoto Kazumasa;Kawai Shunpei;Kozawa Takahiro
通讯作者：
Kozawa Takahiro

Synthesis of hyperbranched polyacetals containing C-(4-t-butylbenz)calix[4]resorcinarene: Resist properties for extreme ultraviolet (EUV) lithography

含有 C-(4-t-丁基苯并)杯[4]间苯二酚的超支化聚缩醛的合成：极紫外 (EUV) 光刻的抗蚀性能

DOI：
10.1016/j.reactfunctpolym.2018.08.013
发表时间：
2018
期刊：
Reactive and Functional Polymers
影响因子：
5.1
作者：
Kudo Hiroto;Fukunaga Mari;Shiotsuki Kohei;Takeda Hiroya;Yamamoto Hiroki;Kozawa Takahiro;Watanabe Takeo
通讯作者：
Watanabe Takeo

摂食シグナルを受容する胆汁酸受容体TGR5

接收进食信号的胆汁酸受体 TGR5

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
実験医学
影响因子：
0
作者：
Murakami Yoshiyuki;Ishiwari Fumitaka;Okamoto Kazumasa;Kozawa Takahiro;Saeki Akinori;佐藤隆一郎
通讯作者：
佐藤隆一郎

デュアルコム分光のための近赤外光周波数コムの可視化

用于双梳光谱的近红外光学频率梳的可视化

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kudo Hiroto;Fukunaga Mari;Yamada Teppei;Yamakawa Shinji;Watanabe Takeo;Yamamoto Hiroki;Okamoto Kazumasa;Kozawa Takahiro;加藤英毅，池田孝介，佐藤航己，郷治侑真，大久保章，稲場肇，吉井一倫，洪鋒雷
通讯作者：
加藤英毅，池田孝介，佐藤航己，郷治侑真，大久保章，稲場肇，吉井一倫，洪鋒雷