Advancement of Filtered Arc Deposition System and Fabrication and Processing of High-Quality Hydrogen-Free DLC Films

过滤电弧沉积系统的改进及高质量无氢DLC薄膜的制备与加工

基本信息

  • 批准号:
    24246048
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 30.12万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 财政年份:
    2012
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2012-04-01 至 2015-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(53)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
PDMSモールドを用いた室温硬化ナノインプリント法によるDLCのナノ加工技術
使用PDMS模具的室温固化纳米压印方法的DLC纳米加工技术
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    清原修二,石川一平,松田将平
  • 通讯作者:
    清原修二,石川一平,松田将平
Fabrication of Micro-OLEDs by Room-temperature Curing Contact-imprint Using DLC Molds
使用 DLC 模具通过室温固化接触压印制造微型 OLED
  • DOI:
    10.1557/opl.2012.1711
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    I. Ishikawa;K. Sakurai;S. Kiyohara;C. Ito;H. Tanoue;Y. Suda;H. Takikawa;Y. Taguchi;Y. Sugiyama;Y. Omata;Y. Kurashima
  • 通讯作者:
    Y. Kurashima
はしご型HSQを用いたPDMSモールド室温硬化ナノインプリント法によるDLCナノドットアレイのパターン形成
使用梯型HSQ的PDMS模具室温固化纳米压印方法形成DLC纳米点阵列的图案
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    I. Ishikawa;T. Okuno;S. Kiyohara;Y. Taguchi;Y. Sugiyama;Y. Omata and Y. Kurashima;松本拓也,石川一平,清原修二,櫻井圭輔,田上英人,須田善行,滝川浩史,渡邊雅彦,杉山嘉也,小俣有紀子,倉島優一;櫻井圭輔,石川一平,清原修二,田上英人,須田善行,滝川浩史,田口佳男,杉山嘉也,小俣有紀子,倉島優一;松田将平,清原修二,石川一平,田上英人,滝川浩史,田口佳男,杉山嘉也,小俣有紀子,倉島優一
  • 通讯作者:
    松田将平,清原修二,石川一平,田上英人,滝川浩史,田口佳男,杉山嘉也,小俣有紀子,倉島優一
チタンバッファーを用いたシリコン基板上に成長したダイアモンドライクカーボン
使用钛缓冲剂在硅基底上生长类金刚石碳
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    稲田優貴;神谷朋輝;松岡成居;熊田亜紀子;池田久利;日高邦彦;金子智,松永崇,池永薫,伊藤健,安井学,堀内崇弘,安原重雄,三尋木勝洋,熊谷正夫,滝川浩史,下平英二,小林昌純,須藤理枝子,松田晃史,吉本護
  • 通讯作者:
    金子智,松永崇,池永薫,伊藤健,安井学,堀内崇弘,安原重雄,三尋木勝洋,熊谷正夫,滝川浩史,下平英二,小林昌純,須藤理枝子,松田晃史,吉本護
Expansion of lattice constants of aluminum nitride thin film prepared on sapphire substrate by ECR plasma sputtering method
ECR等离子体溅射法在蓝宝石衬底上制备氮化铝薄膜晶格常数的扩展
  • DOI:
    10.7567/jjap.53.11ra11
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    S Kaneko;H Torii;T Amazawa;T Ito;M Yasui;M Kurouchi;A Fukushima;T Tokumasu;S Lee;S Park;H Takikawa;M Yoshimoto
  • 通讯作者:
    M Yoshimoto
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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Feasibility study on solar energy converter using nanotube electron emitter
使用纳米管电子发射器的太阳能转换器的可行性研究
  • 批准号:
    23656197
  • 财政年份:
    2011
  • 资助金额:
    $ 30.12万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
Development of filtered-arc-deposition source with activated anode and preparation of functional-amorphous carbon film
活性阳极过滤电弧沉积源的研制及功能性非晶碳膜的制备
  • 批准号:
    21360131
  • 财政年份:
    2009
  • 资助金额:
    $ 30.12万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of Mass-Production Technique of Carbon Nanohorn Based on Arc discharge Method
基于电弧放电法的碳纳米角量产技术开发
  • 批准号:
    15310087
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 30.12万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
High Speed Production of Nanotube film for Cold Cathode Electron Emitter and Its Property Evaluation
冷阴极电子发射器用纳米管薄膜的高速制备及其性能评价
  • 批准号:
    13650342
  • 财政年份:
    2001
  • 资助金额:
    $ 30.12万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

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