Advancement of Filtered Arc Deposition System and Fabrication and Processing of High-Quality Hydrogen-Free DLC Films
Advancement of Filtered Arc Deposition System and Fabrication and Processing of High-Quality Hydrogen-Free DLC Films
批准号:
24246048
负责人:
TAKIKAWA Hirofumi
金额:
$30.12万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份:
2012
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2012-04-01 至 2015-03-31
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チタンバッファーを用いたシリコン基板上に成長したダイアモンドライクカーボン
使用钛缓冲剂在硅基底上生长类金刚石碳
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[稲田優貴, 神谷朋輝, 松岡成居, 熊田亜紀子, 池田久利, 日高邦彦, 金子智,松永崇,池永薫,伊藤健,安井学,堀内崇弘,安原重雄,三尋木勝洋,熊谷正夫,滝川浩史,下平英二,小林昌純,須藤理枝子,松田晃史,吉本護]
通讯作者:
金子智,松永崇,池永薫,伊藤健,安井学,堀内崇弘,安原重雄,三尋木勝洋,熊谷正夫,滝川浩史,下平英二,小林昌純,須藤理枝子,松田晃史,吉本護
Expansion of lattice constants of aluminum nitride thin film prepared on sapphire substrate by ECR plasma sputtering method
ECR等离子体溅射法在蓝宝石衬底上制备氮化铝薄膜晶格常数的扩展
DOI:
10.7567/jjap.53.11ra11
发表时间:
2014
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
[S Kaneko, H Torii, T Amazawa, T Ito, M Yasui, M Kurouchi, A Fukushima, T Tokumasu, S Lee, S Park, H Takikawa, M Yoshimoto]
通讯作者:
M Yoshimoto
PDMSモールドを用いた室温硬化ナノインプリント法によるDLCのナノ加工技術
使用PDMS模具的室温固化纳米压印方法的DLC纳米加工技术
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
コンバーテック
影响因子:
--
作者:
[清原修二,石川一平,松田将平]
通讯作者:
清原修二,石川一平,松田将平
Fabrication of Micro-OLEDs by Room-temperature Curing Contact-imprint Using DLC Molds
使用 DLC 模具通过室温固化接触压印制造微型 OLED
DOI:
10.1557/opl.2012.1711
发表时间:
2013
期刊:
Mater. Res. Soc. Symp. Proc.
影响因子:
--
作者:
[I. Ishikawa, K. Sakurai, S. Kiyohara, C. Ito, H. Tanoue, Y. Suda, H. Takikawa, Y. Taguchi, Y. Sugiyama, Y. Omata, Y. Kurashima]
通讯作者:
Y. Kurashima
はしご型HSQを用いたPDMSモールド室温硬化ナノインプリント法によるDLCナノドットアレイのパターン形成
使用梯型HSQ的PDMS模具室温固化纳米压印方法形成DLC纳米点阵列的图案
DOI:
--
发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
--
作者:
[I. Ishikawa, T. Okuno, S. Kiyohara, Y. Taguchi, Y. Sugiyama, Y. Omata and Y. Kurashima, 松本拓也,石川一平,清原修二,櫻井圭輔,田上英人,須田善行,滝川浩史,渡邊雅彦,杉山嘉也,小俣有紀子,倉島優一, 櫻井圭輔,石川一平,清原修二,田上英人,須田善行,滝川浩史,田口佳男,杉山嘉也,小俣有紀子,倉島優一, 松田将平,清原修二,石川一平,田上英人,滝川浩史,田口佳男,杉山嘉也,小俣有紀子,倉島優一]
通讯作者:
松田将平,清原修二,石川一平,田上英人,滝川浩史,田口佳男,杉山嘉也,小俣有紀子,倉島優一
共 52 条
Feasibility study on solar energy converter using nanotube electron emitter
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批准号:23656197
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$2.5万
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财政年份:2011
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负责人:TAKIKAWA Hirofumi
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依托单位:
Development of filtered-arc-deposition source with activated anode and preparation of functional-amorphous carbon film
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批准号:21360131
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$11.65万
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财政年份:2009
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负责人:TAKIKAWA Hirofumi
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依托单位:
Development of Mass-Production Technique of Carbon Nanohorn Based on Arc discharge Method
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批准号:15310087
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$8.45万
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财政年份:2003
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负责人:TAKIKAWA Hirofumi
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依托单位:
High Speed Production of Nanotube film for Cold Cathode Electron Emitter and Its Property Evaluation
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批准号:13650342
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.56万
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财政年份:2001
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负责人:TAKIKAWA Hirofumi
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依托单位: