Development of filtered-arc-deposition source with activated anode and preparation of functional-amorphous carbon film
活性阳极过滤电弧沉积源的研制及功能性非晶碳膜的制备
基本信息
- 批准号:21360131
- 负责人:
- 金额:$ 11.65万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2009
- 资助国家:日本
- 起止时间:2009 至 2011
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
About a functional film deposition apparatus using the vacuum arc discharge plasma, we designed and developed a new filtered-arc-deposition system for doping dissimilar element into DLC film and preparing high-quality(high smoothness, uniform and droplet-free) DLC film. Apparatus function was assessed and dissimilar element doped DLC film was prepared.
在真空电弧等离子体功能薄膜沉积装置方面,我们设计并研制了一种新型的过滤电弧沉积系统,用于在DLC薄膜中掺杂异种元素,制备高质量(高平整度、均匀性、无液滴)DLC薄膜。对器件性能进行了评价,并制备了异种元素掺杂DLC膜。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
磁気引出し型プラズマガンで生成したN2プラズマのプローブ診断
磁抽式等离子枪产生N2等离子体的探针诊断
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:堀井裕樹;柳田太一郎;神谷雅男;田上英人;須田善行;滝川浩史;瀧真;長谷川祐史;辻信広;石川剛史
- 通讯作者:石川剛史
Ashing of DLC film by oxygen plasma beam converted from filtered carbon-cathodic-arc
过滤碳阴极电弧转化的氧等离子束灰化 DLC 薄膜
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Sakamoto;T. Iida;S. Kurosaki;K. Yano;H. Taguchi;K. Nishio;and Y. Takanashi;松井幹彦;田上英人
- 通讯作者:田上英人
高品質DLC膜形成に向けた真空アークプラズマビームの制御
真空电弧等离子束控制可形成高质量 DLC 薄膜
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Shinichiro MUROOKA;Keisuke TOMODA;Nobukazu HOSHI;Junnosuke HARUNA;Meifen CAO;Atsuhiro YOSHIZAKI and Keiichi HIRATA;滝川浩史
- 通讯作者:滝川浩史
フィルタードアーク蒸着法で形成したDLC膜の膜質に及ぼす基板バイアスの影響
基底偏压对过滤电弧蒸镀法形成DLC膜膜质量的影响
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Qi Zhang;Xiangdong Sun;Yanru Zhong;Biying Ren and Mikihiko Matsui;柏木大幸
- 通讯作者:柏木大幸
真空アークプラズマを用いたDLC:Si:H膜の合成
采用真空电弧等离子体合成 DLC:Si:H 薄膜
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:加藤;佐野;鈴置;須藤利文;田上英人
- 通讯作者:田上英人
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TAKIKAWA Hirofumi其他文献
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