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Precise control of nanoparticle deposition using plasma

使用等离子体精确控制纳米颗粒沉积

基本信息

批准号：
26246036
负责人：
Shiratani Masaharu
金额：
$ 26.46万
依托单位：
Kyushu University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
起止时间：
2014-04-01 至 2019-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（205）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Spatiotemporal Non-uniformity of CVD Plasmas and Film Qualities (Invited)

CVD等离子体和薄膜质量的时空非均匀性（特邀）

DOI：
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
0
作者：
M. Erbar;K. Kuwada and K.-T. Sturm;M. Shiratani
通讯作者：
M. Shiratani

反応性プラズマとナノ粒子の相互作用ゆらぎの相関関係解析

反应等离子体与纳米颗粒相互作用波动的相关分析

DOI：
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
0
作者：
周靭;森研人;大友洋;山下大輔;徐鉉雄;板垣奈穂;古閑一憲;白谷正治
通讯作者：
白谷正治

Effects of electrostatic field direction on dust accumulation to mirror in a plasma reactor

静电场方向对等离子体反应器中镜子灰尘积累的影响

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
R. Katayama;T. Fang;K. Koga;D. Yamashita;H. Seo;N. Itagaki;M. Shiratani;S. Masuzaki;N. Ashikawa;M. Tokitani;K. Nishimura;A. Sagara
通讯作者：
A. Sagara

Interaction potential fluctuation between binary collisions of fine particles suspended in low pressure Ar rf plasmas

低压Ar射频等离子体中悬浮细颗粒二元碰撞之间的相互作用势波动

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
M. Soejima;H. Ohtomo;K. Mori;D. Yamashita;H. Seo;N. Itagaki;K. Koga;M. Shiratani
通讯作者：
M. Shiratani

反応性プラズマとナノ粒子の相互作用ゆらぎの時空間構造解析

反应等离子体与纳米粒子之间相互作用波动的时空结构分析

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
森研人;添島雅大;山下大輔;徐鉉雄;板垣奈穂;古閑一憲;白谷正治
通讯作者：
白谷正治

DOI：
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Shiratani Masaharu其他文献

Calculation of Vibrational Spectra of Large Molecules from Their Fragments　Calculation of Vibrational Spectra of Large Molecules from Their Fragments

从碎片计算大分子的振动光谱：从碎片计算大分子的振动光谱

DOI：
发表时间：
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期刊：
影响因子：
0
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通讯作者：
Shigeki Yamamoto and Petr Bour

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CR Killing 算子和 CR 几何中的 BGG 构造

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Hwang Sung-Hwa;Okumura Takamasa;Kamataki Kunihiro;Itagaki Naho;Koga Kazunori;Nakatani Tatsuyuki;Shiratani Masaharu;Y. Matsumoto
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Y. Matsumoto

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2022
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影响因子：
0
作者：
Nunomura Shota;Sakata Isao;Sakakita Hajime;Koga Kazunori;Shiratani Masaharu;松本佳彦;杉本馨
通讯作者：
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Low-stress diamond-like carbon films containing carbon nanoparticles fabricated by combining rf sputtering and plasma chemical vapor deposition

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DOI：
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1.5
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调幅电容耦合放电 Ar 等离子体对撞击电极的离子动能和角分布函数的影响：细胞内粒子/蒙特卡罗碰撞模型模拟

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10.35848/1347-4065/ac7626
发表时间：
2022
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Abe Kohei;Kamataki Kunihiro;Yamamoto Akihiro;Nagao Iori;Otaka Michihiro;Yamashita Daisuke;Okumura Takamasa;Yamashita Naoto;Itagaki Naho;Koga Kazunori;Shiratani Masaharu
通讯作者：
Shiratani Masaharu