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Anisotropic plasma CVD using pressure-controlled micro plasmas

Anisotropic plasma CVD using pressure-controlled micro plasmas
使用压力控制微等离子体的各向异性等离子体 CVD
批准号：
16K13922
负责人：
Shiratani Masaharu
金额：
$2.33万
依托单位：
Kyushu University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2018-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-16K13922/
关键词：
異方性製膜プラズマCVD製膜形状制御マイクロプラズマカーボン保護膜異方性堆積

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Ar+H2+C7H8プラズマCVD法におけるアモルファス水素化炭素膜に対する水素流量比の影響
Ar+H2+C7H8等离子体CVD法中氢气流量比对非晶氢化碳薄膜的影响
DOI： --
发表时间： 2016
期刊：
影响因子： --
作者： [方韜鈞, 山木健司, 山下大輔, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治]
通讯作者： 白谷正治
Effects of bias voltage on the surface morphology of a-C:H films deposited using Ar + H2+ C7H8 Plasma CVD
偏压对 Ar H2 C7H8 等离子体 CVD 沉积 a-C:H 薄膜表面形貌的影响
DOI： --
发表时间： 2017
期刊：
影响因子： --
作者： [M. Shiratani, T. Fang, K. Yamaki, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki]
通讯作者： N. Itagaki
Plasma CVD of a-C:H films as protective layers for solar cells (Invited)
等离子体 CVD 制备 a-C:H 薄膜作为太阳能电池保护层（特邀）
DOI： --
发表时间： 2018
期刊：
影响因子： --
作者： [M. Shiratani, T. Fang, K. Yamaki, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Takenaka, Y. Setsuhara]
通讯作者： Y. Setsuhara
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气体流量比对Ar H2 C7H8等离子体CVD沉积a-C:H薄膜结构的影响
DOI： --
发表时间： 2017
期刊：
影响因子： --
作者： [T. Fang, K. Yamaki, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani]
通讯作者： M. Shiratani
共 12 条
    Novel nanoparticle detection method using compact drift tube
    • 批准号：
      26600126
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额：
      $2.5万
    • 财政年份：
      2014
    • 负责人：
      Shiratani Masaharu
    • 依托单位：
      Kyushu University
    Precise control of nanoparticle deposition using plasma
    • 批准号：
      26246036
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额：
      $26.46万
    • 财政年份：
      2014
    • 负责人：
      Shiratani Masaharu
    • 依托单位：
      Kyushu University
    海外基金