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Anisotropic plasma CVD using pressure-controlled micro plasmas

使用压力控制微等离子体的各向异性等离子体 CVD

基本信息

批准号：
16K13922
负责人：
Shiratani Masaharu
金额：
$ 2.33万
依托单位：
Kyushu University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2016
资助国家：
日本
起止时间：
2016-04-01 至 2018-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（14）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Ar+H2+C7H8プラズマCVD法におけるアモルファス水素化炭素膜に対する水素流量比の影響

Ar+H2+C7H8等离子体CVD法中氢气流量比对非晶氢化碳薄膜的影响

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
方韜鈞;山木健司;山下大輔;徐鉉雄;板垣奈穂;古閑一憲;白谷正治
通讯作者：
白谷正治

Effects of bias voltage on the surface morphology of a-C:H films deposited using Ar + H2+ C7H8 Plasma CVD

偏压对 Ar H2 C7H8 等离子体 CVD 沉积 a-C:H 薄膜表面形貌的影响

DOI：
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
0
作者：
M. Shiratani;T. Fang;K. Yamaki;K. Koga;D. Yamashita;H. Seo;N. Itagaki
通讯作者：
N. Itagaki

Plasma CVD of a-C:H films as protective layers for solar cells (Invited)

等离子体 CVD 制备 a-C:H 薄膜作为太阳能电池保护层（特邀）

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
M. Shiratani;T. Fang;K. Yamaki;K. Koga;D. Yamashita;H. Seo;N. Itagaki;K. Takenaka;Y. Setsuhara
通讯作者：
Y. Setsuhara

Effects of gas flow rate ratio on structure of a-C:H films deposited using Ar + H2+ C7H8 plasma CVD

气体流量比对Ar H2 C7H8等离子体CVD沉积a-C:H薄膜结构的影响

DOI：
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
0
作者：
T. Fang;K. Yamaki;K. Koga;D. Yamashita;H. Seo;N. Itagaki;M. Shiratani
通讯作者：
M. Shiratani

水素原子源付プラズマCVD法に任意電圧波形を併用したa-C:H薄膜の堆積

氢原子源结合任意电压波形等离子体CVD法沉积a-C:H薄膜

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
古閑一憲;山木健司;方トウジュン;山下大輔;徐鉉雄;板垣奈穂;白谷正治
通讯作者：
白谷正治

DOI：
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Shiratani Masaharu其他文献

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从碎片计算大分子的振动光谱：从碎片计算大分子的振动光谱

DOI：
发表时间：
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期刊：
影响因子：
0
作者：
Seo Hyunwoong;Gopi Chandu V.V.M.;Kim Hee-Je;Itagaki Naho;Koga Kazunori;Shiratani Masaharu;Shigeki Yamamoto and Petr Bour
通讯作者：
Shigeki Yamamoto and Petr Bour

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影响因子：
0
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Y. Matsumoto

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2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
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通讯作者：
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通讯作者：
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DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Abe Kohei;Kamataki Kunihiro;Yamamoto Akihiro;Nagao Iori;Otaka Michihiro;Yamashita Daisuke;Okumura Takamasa;Yamashita Naoto;Itagaki Naho;Koga Kazunori;Shiratani Masaharu
通讯作者：
Shiratani Masaharu