Nonvolatile power-gating technology based on CMOS/spintronics-hybrid CMOS circuits
Nonvolatile power-gating technology based on CMOS/spintronics-hybrid CMOS circuits
批准号:
26249049
负责人:
Sugahara Satoshi
金额:
$25.88万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份:
2014
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2014-04-01 至 2019-03-31
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デュアルモードインバータを用いた疑似不揮発性SRAMの設計と解析
使用双模反相器的伪非易失性SRAM的设计与分析
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Xiangying Deng, Shunri Oda, Yukio Kawano, 吉田隼,北形大樹,山本修一郎,菅原聡]
通讯作者:
吉田隼,北形大樹,山本修一郎,菅原聡
Design and Implementation of Nonvolatile Power-Gating SRAM Using SOTB Technology
采用SOTB技术的非易失性电源门控SRAM的设计与实现
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Y. Shuto, S. Yamamoto, and S. Sugahara]
通讯作者:
and S. Sugahara
磁気抵抗素子および記憶回路
磁阻元件及存储电路
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Inverse-magnetostriction-induced switching current reduction of STT-MTJs and its application for low-voltage MRAM
STT-MTJ 的逆磁致伸缩引起的开关电流降低及其在低压 MRAM 中的应用
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
Solid-State Electronics
影响因子:
1.7
作者:
[Y. Takamura, Y. Shuto, S. Yamamoto, H. Funakubo, M. K. Kurosawa, S. Nakagawa, S. Sugahara]
通讯作者:
S. Sugahara
擬似不揮発性FFの速度性能優先設計とその回路性能
伪非易失性FF的速度性能优先设计及其电路性能
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S. Oki, K. Nabekura, M. Iwakuma, 北形大樹,松﨑翼,山本修一郎,菅原聡]
通讯作者:
北形大樹,松﨑翼,山本修一郎,菅原聡
共 38 条
Si-channel Hanle-effect spin devices for spin injection and spin transport.
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批准号:26630153
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$2.41万
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财政年份:2014
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负责人:Sugahara Satoshi
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依托单位: