歪みによる原子層モアレ構造の制御とモアレ光機能デバイスの創製
歪みによる原子層モアレ構造の制御とモアレ光機能デバイスの創製
批准号:
22H01899
负责人:
蒲 江
金额:
$11.15万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2022
资助国家:
日本
项目状态:
未结题
起止时间:
2022-04-01 至 2026-03-31
中文摘要
本研究の目標は、原子層ヘテロ構造に生じるモアレパターンを新たなデバイス機能発現の自由度とみなし、モアレ構造を外場操作(回転角と歪み)により連続制御する技術を構築することで、新しい発光・受光機能を有するデバイス(オプト・ツイストロニクス)の実現を目指す。具体的には、柔軟な基板上に遷移金属ダイカルコゲナイド(TMDC)による回転積層ヘテロ構造を作製し、機械的変形を行うことで任意のモアレパターン制御を行う。これにより、モアレポテンシャルに閉じ込められた励起子の次元性を連続的に変調可能となり、モアレ励起子の量子状態及び偏光自由度を機能化した発光・受光デバイスの作製を目的とする。この目的に対し本年度は、(1)歪みを用いた原子層ヘテロ構造作製技術の構築と、(2)歪み効果を導入したモアレパターンの制御・観測技術の構築を行った。以下、項目ごとに示す。(1)歪みを用いた原子層ヘテロ構造作製技術原子層ヘテロ構造を柔軟な基板上に作製し、基板を変形することで積層構造に歪み効果の導入を行った。歪み効果は顕微分光測定(PL、ラマン、第二次高調波)により評価した。その結果、ヘテロ構造において歪みを印加すると、層間において歪み分布が代わる結果が得られた。加えて、歪みによる層間励起子の変調を示唆する結果も観測した。(2)歪み効果を導入したモアレパターンの制御・観測技術上述の歪み導入したヘテロ構造において、ピエゾAFMによるモアレパターンの直接観測をを行った。その結果、歪み任意に変調することでモアレパターンの連続的な制御に成功し、特殊な対称性や次元性を有するモアレ超格子の作製を可能にした。本年度確立した構造制御及び観測評価手法を基に、今後モアレパターン制御による新たな量子機能光デバイスの実現を目指す。
英文摘要
本研究の目標は、原子層ヘテロ構造に生じるモアレパターンを新たなデバイス機能発現の自由度とみなし、モアレ構造を外場操作(回転角と歪み)により連続制御する技術を構築することで、新しい発光・受光機能を有するデバイス(オプト・ツイストロニクス)の実現を目指す。具体的には、柔軟な基板上に遷移金属ダイカルコゲナイド(TMDC)による回転積層ヘテロ構造を作製し、機械的変形を行うことで任意のモアレパターン制御を行う。これにより、モアレポテンシャルに閉じ込められた励起子の次元性を連続的に変調可能となり、モアレ励起子の量子状態及び偏光自由度を機能化した発光・受光デバイスの作製を目的とする。この目的に対し本年度は、(1)歪みを用いた原子層ヘテロ構造作製技術の構築と、(2)歪み効果を導入したモアレパターンの制御・観測技術の構築を行った。以下、項目ごとに示す。(1)歪みを用いた原子層ヘテロ構造作製技術原子層ヘテロ構造を柔軟な基板上に作製し、基板を変形することで積層構造に歪み効果の導入を行った。歪み効果は顕微分光測定(PL、ラマン、第二次高調波)により評価した。その結果、ヘテロ構造において歪みを印加すると、層間において歪み分布が代わる結果が得られた。加えて、歪みによる層間励起子の変調を示唆する結果も観測した。(2)歪み効果を導入したモアレパターンの制御・観測技術上述の歪み導入したヘテロ構造において、ピエゾAFMによるモアレパターンの直接観測をを行った。その結果、歪み任意に変調することでモアレパターンの連続的な制御に成功し、特殊な対称性や次元性を有するモアレ超格子の作製を可能にした。本年度確立した構造制御及び観測評価手法を基に、今後モアレパターン制御による新たな量子機能光デバイスの実現を目指す。
期刊论文(27)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
Electric double layer doping in WSe2/WS2 van der Waals heterostructure
WSe2/WS2 范德华异质结构中的双电层掺杂
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Rei Usami, Koshi Oi, Motoki Matsuno, Takahiko Endo, Yasumitsu Miyata, Jiang Pu, Taishi Takenobu]
通讯作者:
Taishi Takenobu
Thermoelectric properties in CVD-grown large-area graphene films
CVD 生长的大面积石墨烯薄膜的热电特性
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Kaito Kanahashi, Takako Matsunaga, Jiang Pu, Hiromichi Ohta, Hiroki Ago, Taishi Takenobu]
通讯作者:
Taishi Takenobu
DOI:
10.1002/adfm.202203602
发表时间:
2022-07
期刊:
Advanced Functional Materials
影响因子:
19
作者:
[Naoki Wada;J. Pu;Yuhei Takaguchi;Wenjin Zhang;Zheng Liu;T. Endo;T. Irisawa;K. Matsuda;Y. Miyauchi;T. Takenobu;Y. Miyata]
通讯作者:
Naoki Wada;J. Pu;Yuhei Takaguchi;Wenjin Zhang;Zheng Liu;T. Endo;T. Irisawa;K. Matsuda;Y. Miyauchi;T. Takenobu;Y. Miyata
DOI:
--
发表时间:
2023
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Koshi Oi, Jiang Pu, Hao Ou, Rei Usami, Takahiko Endo, Yasumitsu Miyata, Keisuke Shinokita, Kazunari Matsuda, Taishi Takenobu]
通讯作者:
Taishi Takenobu
Electric double layer doping in WSe2/WS2 van der Waals heterostructure
WSe2/WS2 范德华异质结构中的双电层掺杂
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Rei Usami, Koshi Oi, Motoki Matsuno, Takahiko Endo,Yasumitsu Miyata, Jiang Pu, Taishi Takenobu]
通讯作者:
Taishi Takenobu
共 17 条
歪みによる原子層モアレ構造の制御とモアレ光機能デバイスの創製
-
批准号:23K23167
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
-
资助金额:$3.66万
-
财政年份:2024
-
负责人:蒲 江
-
依托单位:
二次元材料によるプリンテッド・アンビエントエレクトロニクスの実現
-
批准号:14J07485
-
项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
-
资助金额:$2.05万
-
财政年份:2014
-
负责人:蒲 江
-
依托单位:
海外基金