核形成・成長のカイネティクス
核形成・成長のカイネティクス
批准号:
04227101
负责人:
西永 頌
金额:
$56.13万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
1993
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1993 至 --
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本年度は最終年度であるので、昨年度からの研究を進めるとともにまとめる方向での研究を行った。先ず核形成の実験に関し、高真空走査型電子顕微鏡内でグラファイト基板上に銀を成長させ、核形成のその場観察を行った(後藤)。次に溶液中での核形成を電界により制御する研究を行い、核形成におよぼす電界の効果に関し、理論と実験の良い一致を得た(大鉢)。気相からの三次元核形成の初期過程を実験的に調べた(墻内)。ウィスカーなど微結晶の成長様式と成長機構を調べた(岸)。成長表面では原子(又は分子)は表面拡散によりステップまで移動する。GaAsの分子線エピタキシーにおいてはステップに来たGa原子は単純にステップに組み込まれるのではなく、その確率はAs圧に依存する。このプロセスをV溝を形成した基板における局所的成長速度を実験的に決定することにより調べた。それによると、(001)面ではこのとり込みの確率がAs圧の2乗に,(111)B面では4乗に比例することがわかった(西永)。成長表面からの原子の離脱を同異体効果により調べた(土山)。成長はステップの移動により行われるが、このステップ同志は成長原子の表面および体積拡散を通して相互作用をする。この相互作用によって形成される巨大ステップをその場観察し、その振舞を明らかにした(栗林)。物質により成長表面は、原子的に平坦になったり荒れたりする。これが成長にどのように影響するかを同一物質で圧力を加えることにより変化させ調べ、理論的に考察した(七里)。
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A.Danilewshy,Y.Okamoto,K.W.Bang and T.Nishinaga: "Dopant segregation in earth-and space-grown InP crystals" Japan.J.Appl.Phys.31. 2195-2201 (1992)
A.Danilewshy、Y.Okamoto、K.W.Bang 和 T.Nishinaga:“地球和太空生长的 InP 晶体中的掺杂剂偏析”Japan.J.Appl.Phys.31。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Y.Gotoh,H.Nishimura,M.Hagino.and H.Yumoto: "Epitaxial orientation relationship of V films on Ag(111)films" Mater.Letlers. (1992)
Y.Gotoh、H.Nishimura、M.Hagino. 和 H.Yumoto:“Ag(111) 薄膜上 V 薄膜的外延取向关系”Mater.Letlers。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
T.Nishinaga and T.Suguki: "Towards under stancling the growth me chanism of 3-5 Semiconducfors on an atomic scale" J.Crystal Growth. (1992)
T.Nishinaga 和 T.Suguki:“在原子尺度上抑制 3-5 个半导体的生长机制”J.Crystal Growth。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
X.Q.Shen,M.Tanaka and T.Nishinaga: "Resharpening effect of AeAs and fabrication of guantum-wires on V-grooved subsfrates by molecular beam epitaxy" J.Crystal Growth. (1992)
X.Q.Shen、M.Tanaka 和 T.Nishinaga:“AeAs 的再锐化效果以及通过分子束外延在 V 形槽基板上制造量子线”J.Crystal Growth。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
T.Ohachi,M.Hiramoto,Y.Yoshihara and I.Tamiguchi: "Silver atomic trap measurement in Agase vy Coulomitric" Solid State Iomics. 51. 191-196 (1992)
T.Ohachi、M.Hiramoto、Y.Yoshihara 和 I.Tamiguchi:“Agase vy Coulomitric 中的银原子陷阱测量”固态 Iomics。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 6 条
低角入射分子線エピタキシ法による絶縁膜上への半導体単結晶薄膜の横方向成長
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批准号:12450006
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$8.51万
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财政年份:2000
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负责人:西永 頌
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依托单位:
原子レベルでの結晶成長機構(総括班)
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批准号:04227103
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$7.87万
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财政年份:1994
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负责人:西永 頌
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依托单位:
核形成と成長のカイネティクス
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批准号:03243102
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$36.74万
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财政年份:1991
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负责人:西永 頌
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依托单位:
原子レベルでの結晶成長機構(総括班)
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批准号:03243104
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$2.62万
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财政年份:1991
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负责人:西永 頌
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依托单位:
原子レベルでの結晶成長機構に関する研究
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批准号:02352027
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项目类别:Grant-in-Aid for Co-operative Research (B)
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资助金额:$1.6万
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财政年份:1990
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负责人:西永 頌
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依托单位:
分子線エピタキシ-の成長素過程の解明と成長表面における原子ステップの制御ー面内極微細構造作製のための基礎研究ー
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批准号:02205019
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.79万
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财政年份:1990
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负责人:西永 頌
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依托单位:
混晶の成長機構と相安定性に関する研究
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批准号:61114002
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项目类别:Grant-in-Aid for Special Project Research
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资助金额:$17.66万
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财政年份:1985
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负责人:西永 頌
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依托单位:
混晶の成長機構と相安定に関する研究
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批准号:62104002
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项目类别:Grant-in-Aid for Special Project Research
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资助金额:$19.52万
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财政年份:1985
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负责人:西永 頌
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依托单位:
準平衡成長および非平衡成長における混晶の成長機構と非混和性に関する研究
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批准号:60222007
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项目类别:Grant-in-Aid for Special Project Research
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资助金额:$10.18万
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财政年份:1985
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负责人:西永 頌
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依托单位:
ルミネッセンス像を用いたマクロステップ形成機構に関する研究
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批准号:59580037
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$0.9万
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财政年份:1984
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负责人:西永 頌
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依托单位:
結晶成長を用いた微細構造の形成に関する基礎的研究
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批准号:58209027
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项目类别:Grant-in-Aid for Special Project Research
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1983
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负责人:西永 頌
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依托单位:
気相エピタキシャル成長の精密制御に関する基礎的研究
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批准号:X00080----546103
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
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资助金额:$5.44万
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财政年份:1980
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负责人:西永 頌
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依托单位:
りん化インジウムの低圧合成と単結晶成長に関する研究
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批准号:X00120----485087
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项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
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资助金额:$3.2万
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财政年份:1979
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负责人:西永 頌
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依托单位:
化合物半導体の液相成長モルフォロジーに付随した非発光センターの形成機構
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批准号:X00090----355145
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.09万
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财政年份:1978
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负责人:西永 頌
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依托单位:
海外基金