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再結晶化/物質移動に着目した耐照射性セラミックスの照射損傷メカニズムの解明
以再结晶/传质为重点阐明耐辐照陶瓷的辐照损伤机理
基本信息
- 批准号：23K04640
- 负责人：
- 金额：$ 3万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2023
- 资助国家：日本
- 起止时间：2023-04-01 至 2026-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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石川 法人其他文献
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- 影响因子：0
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- 发表时间：
2021 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
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石川 法人
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- DOI：
- 发表时间：
2019 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
丸尾 彩夏;塘中 宏樹;Mohammad Majidur Rahman;安田 和弘;松村 晶;石川 法人;大川 浩一 - 通讯作者：
大川 浩一
石川 法人的其他文献
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