反応性プラズマ中の電界分布測定法の開発
反応性プラズマ中の電界分布測定法の開発
批准号:
02214110
负责人:
堤井 信力
金额:
$7.04万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
1988
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1988 至 1990
中文摘要
本研究は反応性プラズマ中の電界分布測定にプロ-ブ法とレ-ザ法の両者を適用し,標準的な測定法として確立することを目的としている。プロ-ブ法に関しては,主としてレ-ザ加熱によるエミッシブプロ-ブを用いた空間電位分布測定法の開発に重点をおき,これまでに,直流及び13.56MHzRF放電プラズマのいずれにおいても,十分測定可能であるとの結果が得られていた。本年度はこれを更に発展させ,強い電界の存在する電極シ-ス中でも,エミッシブプロ-ブ特性の電流急増点を用いることによって,空間電位の決定が可能であることを示した。また,この方法によって得られる空間電位を基準として,電圧をフィ-ドバック校正することによって,RF放電中における正確なシングルプロ-ブの測定が可能であることを確めた。レ-ザ法に関しては,優れた測定精度を有するLOG法(レ-ザオプトガルバノ法)を用いて,空間的分解能に優れたLIF法(レ-ザ蛍光法)を校正する手法を開発してきたが,本年度はその一般化についての理論的及び実験的考察を行い,測定法として確立することができた。また,同一装置の直流放電中で,プロ-ブ法とレ-ザ法の同時測定を行い,両者の結果を比較検討した。その結果強い電界の存在する電極シ-ス中でも,上記エミッシブプロ-ブの電流急増点を空間電位と見なすことによって,レ-ザ法とプロ-ブ法の測定結果は良く一致し,有効な測定法として適用可能であることが示された。以上によって,本研究の目的である反応性プラズマ中における電界分布測定の標準的な測定法を確立することができた。
英文摘要
本研究は反応性プラズマ中の電界分布測定にプロ-ブ法とレ-ザ法の両者を適用し,標準的な測定法として確立することを目的としている。プロ-ブ法に関しては,主としてレ-ザ加熱によるエミッシブプロ-ブを用いた空間電位分布測定法の開発に重点をおき,これまでに,直流及び13.56MHzRF放電プラズマのいずれにおいても,十分測定可能であるとの結果が得られていた。本年度はこれを更に発展させ,強い電界の存在する電極シ-ス中でも,エミッシブプロ-ブ特性の電流急増点を用いることによって,空間電位の決定が可能であることを示した。また,この方法によって得られる空間電位を基準として,電圧をフィ-ドバック校正することによって,RF放電中における正確なシングルプロ-ブの測定が可能であることを確めた。レ-ザ法に関しては,優れた測定精度を有するLOG法(レ-ザオプトガルバノ法)を用いて,空間的分解能に優れたLIF法(レ-ザ蛍光法)を校正する手法を開発してきたが,本年度はその一般化についての理論的及び実験的考察を行い,測定法として確立することができた。また,同一装置の直流放電中で,プロ-ブ法とレ-ザ法の同時測定を行い,両者の結果を比較検討した。その結果強い電界の存在する電極シ-ス中でも,上記エミッシブプロ-ブの電流急増点を空間電位と見なすことによって,レ-ザ法とプロ-ブ法の測定結果は良く一致し,有効な測定法として適用可能であることが示された。以上によって,本研究の目的である反応性プラズマ中における電界分布測定の標準的な測定法を確立することができた。
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村岡 克紀: "放電パラメ-タの計測" 應用物理. 59. 947-948 (1990)
Katsunori Muraoka:“放电参数的测量”Jikyo Jitsu。59. 947-948 (1990)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
H.Handa: "Frequency Dependence of Electron Energy Distribution in RF Plasmas" Proc.8th Symp.on Plasma Processings (Nagoya). 409-412 (1991)
H.Handa:“射频等离子体中电子能量分布的频率依赖性”Proc.8th Symp.on 等离子体处理(名古屋)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Y.Yamagata: "Inーsitu Calibration for Electric Field Measurements in Glow Discharge Plasmas by LaserーInduced Fluorescence Using Optogduanic Techneque." Japanese J.Appl.Phys.30. 166-170 (1991)
Y. Yamagata:“使用 Optogduanic 技术对辉光放电等离子体中的电场进行原位校准”,日本 J.Appl.Phys.30(1991 年)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
X.Chen: "Isotope Effects in Amorphous Silicon thin Films Produced by ArーSiH_4ーD_2 Plasma Chemical Uapor Deposition Method" J.Appl.Phys (U.S.A). 69. 1678-1686 (1991)
X.Chen:“ArーSiH_4ーD_2 等离子体化学沉积法生产的非晶硅薄膜中的同位素效应”J.Appl.Phys (美国) 69. 1678-1686 (1991)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
M.Mizumura: "Circit Design for Electrostatic Probe in RF Plasma Diagnostics" Proc.8th Symp.on Plasma Processings (Nagoya). 65-68 (1991)
M.Mizumura:“射频等离子体诊断中静电探针的电路设计”Proc.8th Symp.on Plasma Processs(名古屋)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 6 条
反応性プラズマ中の電界分布測定法の開発
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批准号:01632011
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$7.04万
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财政年份:1988
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负责人:堤井 信力
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依托单位:
反応性プラズマ中の電界分布測定法の開発
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批准号:63632012
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$5.12万
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财政年份:1988
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负责人:堤井 信力
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依托单位: