反応性非平衡RFプラズマの診断

反应性非平衡射频等离子体的诊断

• 批准号: 02214103
• 负责人: 菅原 実
• 金额: $ 6.4万
• 依托单位: Gunma University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• 财政年份: 1990
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1990 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-02214103/
• 关键词: 探針法; ダブルプロ-ブ法; シランプラズマの診断; 高周波放電; RF放電; 負イオン; オプトガルバノ効果; フォトカウンティング法

この研究は、最も共通性のある平行平板電極構造を持つ容量性RF放電リアクタ-を用い、アルゴンガスおよび反応性ガス(SiH4,SF6)中で、放電の電気的、光学的な構造を、時間・空間分解しながら診断することを目的としている。今年度の成果を以下に述べる。1)RF反応性ガス放電プラズマ中におけるシングルプロ-ブ法探針測定へのRF電位変動の影響を補う方法として、プロ-ブの回路系に、外部からRF電位を加え、シ-スにはRF電位変動が加わらない方式を考案した。また、RF電位補償の達成の度合いをチェックする方法を考案し、RF電位変動を打ち消した状態でのプロ-ブ法を可能にした。2)RF放電イオンシ-ス構造とその動的振る舞いRF放電の構造をDC放電と対比しながら、その電気的(電位分布、電荷分布)と光学的構造(負グロ-、陽光柱)をしらべている。今年は、f=400KHz,13.56MHzの場合で、負グロ-出現のタイミングとその時間・空間的進展過程をフォトカウンティング法により測定した。3)直列の2容量型の等価回路モデルを用い、RF放電のシミュレ-ションを行ない、DCシ-ス電圧とVrfの関係を導いた。4)平行平板型電極配置で、一方の電極上にSiウェ-ハ-を浮遊状態で載せた場合の発光分布は、非対称になった。これは、ウェ-ハ-前面での電界の歪みによるものと思われる。5)質量分析の測定から、F,SF3などの解離によるフラグメントは、30KHzより1MHzの方が有効に生成されていることがわかった。

This research aims at the most common and parallel plate electrode structure, capacitive RF discharge, electrical and optical discharge structure, temporal and spatial decomposition, and diagnostic. This year's achievements are described below. 1)RF response characteristics: RF potential variation is measured by probe method. The method of RF potential variation is studied by loop system and external RF potential variation. The method of achieving the compensation of RF potential is considered, and the method of reducing RF potential is possible. 2)RF Li structure: DC Li structure: DC Li structure: This year, f= 400 kHz, 13.56 MHz, negative wave-appear time and space progress process, the time and space of the measurement. 3)The relationship between DC voltage and RF voltage is discussed. 4)Parallel plate electrode arrangement, one side of the electrode on the Si- The electric field in front of us is full of energy. 5)Mass analysis of the determination of F,SF3, F,SF3, SF 3,

项目成果

I.Ishikawa,K.Koike,T.Akitu,S.Suganomata and H.Matuzawa: "Detection Technique of Negative Ions by Photodetachment in SF_6 Lowーfrequency Discharge." Japan.J.Appl.Phys.29. 767-768 (1990)

I. Ishikawa、K. Koike、T. Akitu、S. Suganomata 和 H. Matuzawa：“SF_6 低频放电中的负离子检测技术。J.Appl.Phys.29。” 1990）

S.Suganomata,I.Ishikawa J.Tanaka and H.Ozaki: "Asymmetrical Emission Profiles from Lowーfrequency Discharges in SF_6 and in N_2 Gases in a Planar Diode with a Siー〓afer." Japan.J.Appl.Phys.30. 180-181 (1991)

S.Suganomata、I.Ishikawa J.Tanaka 和 H.Ozaki：“使用 Si〓afer 的平面二极管中 SF_6 和 N_2 气体中的低频放电的不对称发射曲线”Japan.J.Appl.Phys。 180-181（1991）

T.Okada and M.Sugawara: "A Modified Technique of the Selfーabsorption Method applicable to Natural Mercury Afterglows" Physics Letters A.150. 385-390 (1990)

T.Okada 和 M.Sukawara：“适用于天然汞余辉的自吸收方法的改进技术”《物理快报》A.150 (1990)。

T.Ohte and M.Sugawara: "Mechanism of controlling the Selfーbias Voltage in a Flatbed Reactor." Materials Science and Engineering A.

T.Ohte 和 M.Sukawara：“平板反应器中自偏压的控制机制”，材料科学与工程 A。