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新型電子分析器による半導体表面からの光励起脱離イオンの放出角度分布の研究

使用新型电子分析仪研究半导体表面光激发脱附离子的发射角分布

基本信息

批准号：
02253202
负责人：
大門寛
金额：
$ 1.92万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1990
资助国家：
日本
起止时间：
1990 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究の目的は、我々が新しく発明した「あるエネルギ-の粒子の角度分布を2次元像として表示する分析器」(特許出願中)を用いて、色々なガスが吸着した結晶表面に、光を当てたときに出てくるイオンのエネルギ-分布、質量分布、放出角度分布を同時に測定することにより、表面での吸着の結合方向や、脱離のメカニズムを解明することであった。本年度はPtの清浄面にNOやCOなどを吸着させた表面に、真空紫外線を照射して出て来るイオンのエネルギ-分布や放出角度分布パタ-ンを観測することを目標にした。本研究は本年度からスタ-トしたが、研究代表者の大門の阪大への転任と重なり、また装置を大幅に改良したので、測定は緒に付いたばからである。装置は昨年まで電子衝撃脱離イオンの測定に使用していたものを改造した。主な改造点を以下に記す。1.励起光源としてHeI真空紫外線の放電管を取り付けた。2.質量分析計を取り付け、脱離イオンの種類を特定するのに用いた。3.イオン銃および電源を作製した(10μA、1000eV)4.試料ホルダ-を改造した。従来の2軸回転機構を維持しながら以下の機構を付け加えた。(1)加熱機構(電子衝撃加熱、200mA、1000eV、1300K)(2)冷却機構(液体窒素容器からの熱伝導、ー70℃)本年度の実験成果としては、1.Pt(001)面を、酸素吸着、加熱、アルゴンイオン衝撃、加熱の繰り返しによる清浄化し、5×20構造を得たこと、および2.その表面にNO分子を吸着させ、電子衝撃脱離イオンの運動エネルギ-分布を測定したこと、が上げられる。今後はさらに質量分布、放出角度分布、及びこれらの励起エネルギ-依存性などを測定し、脱離メカニズムを解明していきたい。

The purpose of this study is to show that the two-dimensional image of the angular distribution of particles indicates that the analyzer is used (especially in the middle). In this study, the purpose of this study is to show that the second-order image of the particle angle distribution indicates that the analyzer is used (especially in the middle). The color is used to absorb the crystal surface, and the temperature distribution, quantity distribution and release angle distribution are measured at the same time. On the surface, the combination direction is absorbed, and the separation system is separated from each other. This year, the Pt clean surface, NO CO surface, vacuum ultraviolet radiation, vacuum ultraviolet light, vacuum ultraviolet, vacuum ultraviolet, vacuum ultraviolet light, vacuum ultraviolet light, vacuum ultraviolet ray, vacuum ultraviolet ray In this study, there is a great deal of improvement in this year's research, the research representative, the research representative and the research representative. Last year, the equipment used to retrofit the equipment by using the equipment and the equipment. The following notes are made at the main transformation point. 1. Encourage the light source to charge the HeI vacuum ultraviolet line discharge tube. two。 The quantity analysis plan is based on payment and is separated from the specific information used in this category. 3. The power source is switched on (10 μ A, 1000eV) 4. The quality of the material is not good enough. In the past two years, we have maintained that the following institutions are responsible for the increase in fees and charges. (1) heating machine (computer heating, 200mA, 1000eV, 1300K) (2) cooling machine (liquid asphyxiant container cooling system, 70 ℃). This year, the results of this year's heating cycle have been tested, 1.Pt (001) noodles, acid absorption, heating, cleaning, cleaning, heating, heating, cleaning, cleaning The NO molecules on the surface are adsorbed on the surface, and the electronic devices are separated from each other. The distribution measurement is used to determine the temperature, and the temperature is on. In the future, the volume distribution, the release angle distribution, and the release angle distribution, and the release angle distribution, the release angle distribution, the discharge angle distribution, the release angle distribution, the discharge angle distribution, the release angle distribution,