希土類を含む人工格子の電流磁気効果による4f電子の不安定性に関する研究

含稀土元素人工晶格中电磁效应引起的4f电子不稳定性研究

• 批准号: 02254216
• 负责人: 佐藤 英行
• 金额: $ 1.66万
• 依托单位: Tokyo Metropolitan University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• 财政年份: 1990
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1990 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-02254216/
• 关键词: 金属人工格子; 電流磁気効果; 希土類

希土類を含む金属人工格子の育成し、4f電子の不安定性を調べるこ試み、及び興味深い人工格子系の電流磁気効果を測定することにより、伝導電子から見た人工格子故の現象を探る試みが行われた。第一の試みついては、小型のMBE装置での人工格子育成が始まり、X線ディフラクトメ-タ-により比較的積層周期の小さい(〜2nm)試料でも積層性が確認できる試料ができるようになった。まもなく、この新しい環境に置かれた4f電子の不安定性に関する興味深い振舞いを報告できることと期待している。第2の試みについては、東大グル-プのAg/Cr、Fe/Crと京都大学グル-プのAg/Vについて、電流磁気効果の測定がなされ、またミシガン州立大のAl/Ni,Cu/NiについてもHall効果、磁気抵抗効果の測定された。Ag/Cr系のHall係数は、Ag厚を10モノレ-ヤ-(ML)に固定し、Cr厚を変化させたとき、1MLの純銀に近い負の値から3MLで絶対値が約3倍に増加しピ-クとなった後、再び減少するという変わった振舞いを見いだした。Cr界面強磁性の可能性を調べるために、磁場依存性の測定を行ったが、7.5Tまで線形であり、磁気抵抗も通常の小さい正の値となり、その可能性は否定された。更に、AgとCrの膜厚を同じにして、積層周期依存性を測定したところ7MLでの銀に近い値から、30MLまでより負の大きな値になるという結果をえた。これらの結果は、純CrのHall係数が正であることから説明できない。Ag/VではVのモ-メントの界面での増大が報告もあり、Ag/Crとの比較もかねて測定したところ、小さな温度依存性の差を除き、Ag/Cr系に見られる様な異常は無かった。Al/Niについては、界面異方性の見積りが行われ、同時に界面に於ける拡散・化合物生成の高感度判定の可能性を示した。Cu/Ni系で8%に至る磁気抵抗の存在と、磁気抵抗と異常Hall効果の相関が見いだされた。

The rare earth contains metal artificial grid for breeding, 4f electric power for qualitative analysis, and electric current magnetism for measuring the quality of the artificial grid, and guiding the electric power for the purpose of testing the quality of the artificial grid. In the first place, the artificial grid of the small MBE device has been bred into an active cycle (~ 2nm) that is smaller than that of the previous one. There is a strong sense of excitement in the environment, not in the environment, not in the environment, in the environment, in the environment. The second, the third, the second, the second Ag/Cr is the number of Hall, the thickness of Cr is 10, the thickness of Cr is 10, the thickness of Cr is fixed, the thickness of Cr is close, the number of 3ML is about 3 times higher than that of others, and then the number of rings is reduced. Cr interface strong magnetic possibility, magnetic field dependence test line, 7.5T magnetic resistance, magnetic resistance is usually small, possibility is negative. The thickness of the film is the same as that of the Ag Cr, the thickness of the film is the same as that of the 30ML, the thickness of the film, the thickness of The results and the Cr Hall number are correct. The interface of Ag/V

项目成果

H.Sato: "Anomaly in the Hall Coefficient of Ag/Cr Superlattice." Proc.MRS 1991 Spring.Meeting.

H.Sato：“Ag/Cr 超晶格霍尔系数的异常。”

H.Sato: "Galvanomagnetic Properties of Cu/Ni Multilayer Films." J.Phys.Soc.Japan.

H.Sato：“Cu/Ni 多层薄膜的电磁特性”。