高機能性・無機ー有機複合薄膜の材料設計

高功能无机有机复合薄膜的材料设计

基本信息

  • 批准号:
    03204024
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 0.96万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    1991
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1991 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

1.光・プラズマハイブリッドCVD法によるアモルファス超格子の作製とその特性:シラン(SiH_4)と四フッ化炭素(CF_4)の混合ガスを光・プラズマハイブリッドCVD法により成膜すると、SiH_4が光CVDによりアモルファスシリコン(aーSi:H)を、また、プラズマによりSiH_4とCF_4が反応してaーSiC:H:F薄膜を生成し、二種類の異なった薄膜が積層化した。膜厚を種々変化させて各50層づつ積層化した薄膜は、1.8eVから2.4eVのバンドギャップを有しており、種々のバンドギャップを持つ積層薄膜の設計・制御が可能であることを明らかにした。2.プラズマCVDの反応解析:シランのプラズマCVDの反応機構の解明は実験的には非常に困難であるので、量子化学的に検討した。ab initio分子軌道法を用いて、フッ素ラジカル存在下のSiH_4の気相反応の第一段階であるF原子によるSiH_4からの水素引き抜き反応について解析したところ、この反応の活性化エネルギ-が極めて小さく、H原子による場合と比較して、極めて容易に反応し、SiH_3を生成することが明らかになった。F原子によるSiH_4からの振動解析を行い、求められたエントロピ-項を用いEyringの式によって、反応速度定数を定めた結果、実験値と極めて近い値を得ることができた。3.熱CVD法によるダイヤモンド薄膜の作製:低圧合成法によるダイヤモンド薄膜の新しい炭素源としてアルコ-ルから作製した固体ゲルを用いて、ダイヤモンドの作成を試みた。プロピルアルコ-ルー固体ゲルは多結晶状のダイヤモンド薄膜を生成したが、イソプロピルアルコ-ルやエタノ-ルの固体ゲルは、粒状のダイヤモンドを生成し、用いるアルコ-ルにより生成するダイヤモンドの形状が変化することを明らかにした。
1. The fabrication and properties of superlattice by optical CVD method include the formation of SiH_4 and SiCF_4 films by optical CVD method, the formation of SiH_4 films by optical CVD method, and the formation of SiCF_4 films by optical CVD method. Film thickness varies from 50 layers to 50 layers, and film thickness varies from 1.8 eV to 2.4 eV. 2. The analysis of CVD reaction: the analysis of CVD reaction mechanism is very difficult, quantum chemistry analysis Ab initio molecular orbital method is used to analyze the first stage of SiH_4 phase inversion in the presence of F atom, SiH_4 phase inversion and SiH_3 phase inversion. F atom 3. Thermal CVD method for the preparation of thin films: low pressure synthesis method for the preparation of thin films of new carbon sources and solid-state materials The solid state film is polycrystalline, and the solid state film is granular. The solid state film is polycrystalline and the solid state film is granular.

项目成果

期刊论文数量(14)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
吉田 泰彦: "バイオセンサの開発" 工業技術(東洋大学工業技術研究所報告). 13. 36-41 (1991)
吉田泰彦:“生物传感器的开发”工业技术(东洋大学工业技术研究所报告)。13. 36-41(1991)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
K.Sato: "Quantum Chemical Study on Elementary Processes in Tetrafluoroethylene Plasma" Proc.Int.Seminar Reactive Plasmas. 289-292 (1991)
K.Sato:“四氟乙烯等离子体基本过程的量子化学研究”Proc.Int.Seminar Reactive Plasmas。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
吉田 泰彦: "プラズマ重合膜の構造と接着性" 文部省重点領域研究・新しい機能性材料ー設計・作製・物性制御ーニュ-ス,特集,接合・接着. 17. 9-14 (1991)
Yasuhiko Yoshida:“等离子体聚合薄膜的结构和粘合性能”教育部优先领域研究/新型功能材料 - 设计、制造、物理性能控制 - 新闻、专题、粘合/粘合。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
吉田 泰彦: "有機ー無機複合薄膜の製造プロセスと膜特性" ニュ-セラミックス. 4. 65-69 (1991)
吉田泰彦:“有机-无机复合薄膜的制造工艺和薄膜性能”《新陶瓷》4. 65-69 (1991)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
K.KASHIWAGI: "Hybrid Films Formed from Hexamethyldisiloxane and SiO by Plasma Process" Jpn.J.Appl.Phys.30. 1803-1807 (1991)
K.KASHIWAGI:“通过等离子体工艺由六甲基二硅氧烷和 SiO2 形成的混合薄膜”Jpn.J.Appl.Phys.30。
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  • 发表时间:
  • 期刊:
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    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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  • 发表时间:
    2014
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  • 作者:
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  • 作者:
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  • 发表时间:
    2014
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    0
  • 作者:
    吉田泰彦;吉田泰彦;吉田泰彦;難波 美和子;福田敬子;吉田 泰彦;難波 美和子
  • 通讯作者:
    難波 美和子

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