電気化学的手法による高機能磁性薄膜材料の創製

使用电化学方法创建高功能磁性薄膜材料

• 批准号: 03205113
• 负责人: 逢坂 哲彌
• 金额: $ 0.96万
• 依托单位: Waseda University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• 财政年份: 1991
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1991 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-03205113/
• 关键词: 高機能材料; 磁性薄膜材料; 磁気記録; 軟磁性材料; 垂直磁気記録媒体; 電気化学; 無電解めっき

本研究では、電気化学的薄膜作製法、特に無電解めっき法による高密度磁気記録媒体材料および軟磁性薄膜材料の膜特性・微細構造および膜生成過程の相関性の検討より、生産性に優れた本手法を用いて機能性薄膜材料を創製する際の基礎的材料設計指針を得ることを目的とした。以下に本年度の検討より得られた成果の概要を示す。1.高密度磁気記録媒体高密度磁気記録媒体薄膜として、垂直磁気異方性を有する無電解CoNiReP合金薄膜を開発してきたが、本研究では従来は面内磁気記録媒体に用いられていたCoNiP三元系薄膜の成膜条件の最適化により、垂直異方性を有する膜の作製が可能であると共に、その保磁力は、浴因子の調整により1500Oe程度まで連続的に制御可能であることを明らかにした。また、いずれの保磁力の膜も折出初期に20nm厚程度の低保磁力領域を有し、このような領域が下地層として働く結果、単層媒体でも良好な記録再生特性を得られることを明らかにした。2.軟磁性薄膜材料前項の磁気記録媒体に関する検討より得られた知見を基に、無電解めっき法による軟磁性薄膜材料作製について検討した結果、ジメチルアミンボラン(DMAB)を還元剤に用いた無電解CoB系浴において、複合錯化剤系を最適化することにより、成膜時より良好な軟磁気特性を有する薄膜が得られることを明らかにした。このCoB膜は面内方向に磁気異方性を示したが、成膜時に外部磁界を印加することにより、この異方性を印加磁界方向に誘導可能であると共に、軟磁気特性も改善されることを確認した。さらにCoB二元系にFeを添加することにより、特に透磁率が大きく向上することを確認し、本手法が軟磁性薄膜作製手法としても高いポテンシャルを有することを明らかにした。

This study aims to obtain basic material design guidelines for the preparation of electro-chemical thin films, especially for electrolysis-free methods, for high-density magnetic recording media materials and soft magnetic thin film materials, and for the analysis of film characteristics, microstructure, and film formation processes. The following is a summary of the results achieved during the year. 1. The development of CoNiReP alloy thin films with perpendicular anisotropy for high density magnetic recording media is studied. The optimization of film formation conditions for CoNiP ternary thin films with perpendicular anisotropy for in-plane magnetic recording media is investigated. The adjustment of the bath factor is 1500Oe, and the control of the continuous flow is possible. In the initial stage of film folding, the film thickness of 20nm is low, and the film thickness of 20nm is low. As a result, the film thickness of 20 nm is low. The film thickness of 20 nm is high. 2. The soft magnetic thin film material is used in the magnetic recording medium, and the results of the preparation of the soft magnetic thin film material are as follows: (1) the electrolyte free CoB system bath,(2) the compound fault system,(3) the optimization of the electrolyte free CoB system,(4) the film formation,(5) the excellent soft magnetic characteristics,(6) the film formation,(7) the film formation,(8) the film formation,(9) the film formation, and (9) the film formation. The magnetic anisotropy of the CoB film is shown in the in-plane direction, and the magnetic anisotropy of the CoB film is shown in the in-plane direction. CoB binary system, the magnetic permeability is high, and the magnetic permeability is high.