权益分类	功能权益	普通用户	{{item.name}}会员
{{category.name}}	{{benefitItem.name}}

ジカルコゲノラト金属錯体をメディエーターとするホスフィンラジカルの発生機構とその利用

以二硫属金属配合物为介体的膦自由基的生成机理及其应用

基本信息

批准号：
06226276
负责人：
清水都夫
金额：
$ 0.96万
依托单位：
Sophia University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1994
资助国家：
日本
起止时间：
1994 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

電極酸化及び還元反応によるホスフィン付加エチレンジカルゴゲノラトコバルト(III)およびロジウム(III)錯体(Fig.1 1および2)からのホスフィン解離反応機構について研究し,次のことを明らかにした.I 電極還元反応:ホスフィン付加体1,2は中心金属がコバルト,ロジウムの違いによらず、電極で1電子還元されるが,生成した還元体は直ちにホスフィンを解離して,遊離錯体の1電子還元体を生成するが,これを酸化すると直ちにもとの付加体を再生する.II 電極酸化反応:コバルト錯体;ホスフィン付加体1,2は1電子づつ3段に酸化される.1電子酸化体は比較的安定で,ホフフィンのモノカチオンラジカルを解離して,遊離錯体を生成する.2電子酸化体は直ちにホスフィンのジカチオンラジカルを解離して、遊離錯体を生成する.ロジウム錯体;コバルト錯体と同様に酸化されるが,1電子酸化体は安定である。2電子酸化体は,ホフフィンのジカチオンラジカルを解離して,遊離錯体を生成する.III 置換基による酸化・還元電位の制御:ホフフィン付加体1の酸化・還元電位はジチオレン環上の置換基Xの電子吸引性の強さに支配される.すなわち,付加体の可逆酸化および還元半波電位はホスフィンが付加していない遊離錯体の可逆還元半波電位および付加体生成定数と直線関係にあることがわかった.従って,付加体の酸化・還元電位および生成定数の遊離錯体の還元電位から知ることが出来る。

Electrode acidification and reduction of the original reaction, such as: (III):(III):(III (Fig. 1) The electrode reduction reaction: the electron reduction: the electron reduction: 1. The electron acidifier is relatively stable, dissociates and generates free complexes. 2. The electron acidifier dissociates and generates free complexes. The acid is stable and stable. 2-electron acidifier is dissociated from the substituent group X, and the free ligand is generated. 3-substitution group is controlled by the electron-attraction of the substituent group X on the ring. Reversible acidification of adducts and reversible reduction of half-wave potentials of adducts and reversible reduction of half-wave potentials of adducts and reversible reduction of half-wave potentials of adducts and reversible reduction of free adducts and linear relations. For example, the acidification potential of the additive and the reduction potential of the free additive are determined.