シランプラズマ中Si微粒子の凝集過程に関する研究

硅烷等离子体中Si细颗粒的聚集过程研究

• 批准号: 07219212
• 负责人: 渡辺 征夫
• 金额: $ 1.41万
• 依托单位: Kyushu University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• 财政年份: 1995
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1995 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-07219212/
• 关键词: Si微粒子; 凝集; シランプラズマ; プラスマCVD; プラズマプロセス; レーザ散乱法; 変調高周波放電法; アモルファスシリコン

本研究は,シランプラズマ中のSi微粒子の凝集過程を明らかにすることを目的として行った.得られた成果は以下の通りである.1)シランガスプラズマ中の微粒子の成長は核発生・初期成長期,急速成長期,成長飽和期の3段階からなる.2)急速成長は微粒子同志の凝集により生じており,その成長速度は熱運動による凝集速度に比べて最大2桁程度速い.3)微粒子のサイズ分散は極めて狭い.4)放電周波数を増加すると微粒子は早く発生し,その密度は高いが,凝集速度,飽和サイズは減少する.5)放電電圧,自己バイアス電圧を増加するほど,またγ効果の顕著な材料を高周波電極に用いるほど,凝集速度と飽和サイズが増加する.6)微粒子が発生する高周波電極シース端領域では,正電荷を持つ微粒子が存在する可能性がある.7)凝集の結果として微粒子密度がイオン密度よりも十分低くなると,ほとんどの微粒子は負に帯電するため,微粒子の成長が飽和する.8)得られた結果は,提案した微粒子の帯電凝集モデルによって説明できる.以上のように,微粒子の凝集過程を制御するための指針を得ることができた.

In this study, the process of Si particle agglutination was studied. The results are as follows: 1) the growth of fine particles in the early stage of nuclear growth, rapid growth, and 3 stages of growth. 2) Rapid growth, agglutination and growth. The speed of growth is much faster than that of the maximum of 2 truss. 3) the dispersion of particles is extremely narrow. 4) the cycle of wave number is higher than that of microparticles, the density is higher, the agglutination speed is less, and the temperature is lower. 5) turn off the computer, use your own computer to increase the temperature. Because of the high cycle temperature of the high cycle electrons in the materials, the speed of agglutination and the temperature fields of the high cycle electrons, 6) the microparticles generate the high cycle electrons in the field, the positive charge holds the microparticles, there is a possibility of failure. 7) Agglutination results show that the density of fine particles is very low. The growth of microparticles and the growth of microparticles. 8) based on the results of the experiment, a proposal is proposed for the determination of microparticles by agglutination. In the above test, the particle agglutination process is used to control the effect of particle agglutination.

项目成果

川崎仁晴: "振幅変調RFプラズマ中の微粒子の成長過程" 第56回応用物理学会学術講演会講演予稿集. 26 (1995)

Hitoshiharu Kawasaki：“调幅射频等离子体中细颗粒的生长过程”日本应用物理学会第 56 届年会记录 26 (1995)。

S. Singh: "Rapid growth process of particles in HF plasmas" 応用物理学会九州支部講演会講演予稿集. 21. 123-124 (1995)

S. Singh：“HF 等离子体中粒子的快速生长过程”日本应用物理学会九州分会论文集 21. 123-124 (1995)。

Masaharu Shiratani: "In-situ polarization-senstive laser-light scattering method for simultanious measurements of two dimensional spatial size and density distributions of particles in plasmas" Journal of Vacuum Science & Technology.

Masaharu Shiratani：“用于同时测量等离子体中粒子的二维空间尺寸和密度分布的原位偏振敏感激光散射方法”真空科学杂志

Masaharu Shiratani: "Two dimensional spatial profiles of particle size and density of particulates grown in rf silane plasmas" Surface Review and Letters.

Masaharu Shiratani：“射频硅烷等离子体中生长的颗粒的粒径和密度的二维空间分布”表面评论和快报。

Y.Watanabe: "Rapid growth processes of particles in rf silane plasmas" International Workshop on Plasma Sources and Surface Interaction. (1995)

Y.Watanabe：“射频硅烷等离子体中粒子的快速生长过程”等离子体源和表面相互作用国际研讨会。