光増感反応による高分子の光電気的機能の傾斜化

光敏反应聚合物的梯度光电函数

• 批准号: 09229241
• 负责人: 山下 和男
• 金额: $ 1.28万
• 依托单位: Hiroshima University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• 财政年份: 1997
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1997 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-09229241/
• 关键词: 電位規制光増感ド-ピング法; ポテンシャル傾斜化; 半導体高分子; ルテニウム錯体; 画像形成

共役導電性高分子は様々な光・電子デバイスへ応用可能な環境調和機能性材料として注目されている。その新展開のために本研究では高分子の新規なド-ピング法の開発とそのポテンシャル傾斜化を目指し、トリス(2,2'-ビピリジン)ルテニウム(II)([Ru(bpy)_3]^<2+>)の光増感酸化・還元反応により生成する中間体のもつ強い酸化・還元力を利用して高分子をアニオン(p-)又はカチオン(n-)ド-ピングする方法、すなわち光増感ド-ピング(PSD)法およびPSD法と電気化学的ド-ピング法の特長を組み合わせた電位規制PSD(PPSD)法の開発を検討した。酸化(還元)消光剤としてペルオキソ二硫酸イオン又はトリエタノールアミンを用いた結果、それぞれ中間体して生成する[Ru(bpy)_3]^<3+>又は[Ru(bpy)_3]^+によりポリ(3-メチルチオフェン)膜又はp-ポリ(ピロール)膜が酸化アニオン(p-)ドープ又は還元脱ドープされることが分かった。さらにPPSD法を用いると高分子膜の深さ方向のポテンシャル傾斜化が、より容易に再現性よく行えることが判明した。PSD法では光技術の特長を生かすことにより化学的あるいは電気化学的方法では困難である微細加工が可能になると期待される。伝導性材料、フォトレジスト材料などへの応用が考えられるポリ[(ジエチルモノシラニレン)ペンタ(2,5-チエニレン)](MS5T)などのポリ[シラニレン(オリゴチエニレン)]を化学的に合成し、スピンコート法により作製したそれら薄膜の分光学的、電気化学的性質を明らかにするとともに、MS5TについてPSD法による画像形成を試みた。フォトマスクを通して光照射された部分のみが淡黄緑色(絶縁性)から暗青色(導電性)に変化し画像の形成が認められた。すなわちPSD法により絶縁性のPS5T薄膜上に導電性の任意のパターンを形成できることが判明した。

Common use of electrical polymers, photoelectrics, photoelectrics, and the use of potential environmental and functional materials pay close attention to the environment and functional materials. In this study, new regulations on high molecular weight (II) ([Ru (bpy) _ 3] ^ & lt;2+&gt) are introduced. The photosensitive acidizing method is used to generate photosensitive acidizing elements. The chemical components are enhanced and acidified. By using the phosphorescence method and the phosphorescence-phosphorescence (PSD) method, the PSD (PPSD) method is used to analyze the electrical chemistry of the PSD method, which is based on the combination of electrical potential specification PSD (PPSD) method. Acidizing (yuan), extinction, phosphodithione, sulfonic acid, sulfuric acid, sulfuric acid, phosphodithiocarbamate, sulfuric acid, phosphodithiocarbamate, sulfonic acid, sulfuric acid, sulfonic acid, sodium disulfate, sulfuric acid, sulfuric acid, sulfonic acid, sodium disulfate, sulfonic acid, sulfonic acid, sodium disulfate, sulfonic acid, sulfuric acid, sulfonic acid, sulfuric acid, sulfonic acid, sul In addition, [Ru (bpy) _ 3] ^ + the film of "3-metal" has the same effect as that of the film of "acidizing" and "acidizing". The PPSD method was used to determine the depth of the polymer film, the slanting of the polymer film, the property of the polymer film and the depth of the polymer film. PSD photoluminescence technology specializes in optical technology, chemical engineering, optical technology, chemical engineering, chemical engineering, chemical engineering Materials, materials and materials. The characteristics of electrical chemistry show that the pictures are formed by MS5T and PSD methods. The color of light is light, the color is yellowish, the color is dark cyan (electrical), the portrait is dark, and the picture is dark. The effect of the PSD method on the electrical properties of the PS5T film is determined by the formation of electrical properties.

项目成果

Yutaka Harima: "Photoelectrolytic Micelle Disruption Method for Preparation of Free Patterns of Pigment Images" Thin Solid Films. 301. 95-104 (1997)

Yutaka Harima：“用于制备颜料图像自由图案的光电解胶束破坏方法”固体薄膜。