超臨界流体を利用した配線形成技術の研究
超臨界流体を利用した配線形成技術の研究
超临界流体布线形成技术研究
批准号：
14040210
负责人：
近藤 英一
金额：
$1.34万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
2002
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2002 至 --
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英文摘要
超臨界CO2は,液体なみの高密度,気体なみの高拡散性・低粘性,さらにゼロ表面張力や溶媒能を兼ね備えた,特異な流体である.安定,安価,無害,低コストであり,リサイクル性もあることから,食品産業などですでに工業的に利用されている.半導体製造プロセスでも,洗浄・乾燥工程や,低誘電率薄膜の作製工程で,超臨界CO2の利用が試みられている.この超臨界CO2を金属堆積のための反応場として用い,有機金属を溶解させ,ナノ空間構造内にCu堆積加工が可能であることを実証した.膜は(111)配向しており,信頼性の高い膜質であることを確認した.比抵抗2.15μΩ.cmと十分低い値が得られた.さらに,きわめて高い反射率が得られた。堆積は, Fe,Au,WN,TiN,TaNなど導電性下地上に優先的に起こった。原料のCuへの転換率はきわめて高いことも判明した.化学気相蒸着法にくらべて100℃以上のプロセス低温化が可能であることを確認した.このような優れた特長が、CO2の溶媒能に由来することを,超臨界Ar流体との比較検討を行うことで,確認した.
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E.Kondoh, K.Kato: "Characteristics of copper deposition in a supercritical C02 fluid"Microelectronic Engineering. 64. 295 (2002)
E.Kondoh、K.Kato：“超临界CO 2 流体中铜沉积的特性”微电子工程。
E.Kondoh、K.Kato：“超临界CO 2 流体中铜沉积的特性”微电子工程。
DOI：
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发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
近藤英一: "超臨界CO2中でのCu薄膜の堆積特性"第63回応用物理学会学術講演会講演予稿集. 760 (2002)
Eiichi Kondo：“超临界 CO2 中铜薄膜的沉积特性”第 63 届日本应用物理学会年会论文集 760（2002 年）。
Eiichi Kondo：“超临界 CO2 中铜薄膜的沉积特性”第 63 届日本应用物理学会年会论文集 760（2002 年）。
DOI：
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发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
E.Kondoh: "Copper Deposition Characteristics from a Supercritical CO2 Fluid"Advanced Metallization Conference 2002, Sep. 29-Oct. 1, San Diego,2002.
E.Kondoh：“超临界 CO2 流体的铜沉积特性”2002 年高级金属化会议，9 月 29 日至 10 月。
E.Kondoh：“超临界 CO2 流体的铜沉积特性”2002 年高级金属化会议，9 月 29 日至 10 月。
DOI：
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发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
近藤英一: "超臨界流体を利用した配線形成技術"応用物理学会シリコンテクノロジー分科会電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会. 49. 47 (2003)
近藤英一：“使用超临界流体的布线形成技术”应用物理学会硅技术分委员会电子、信息和通信工程师研究所硅材料和器件研究组。 49. 47 (2003)。
近藤英一：“使用超临界流体的布线形成技术”应用物理学会硅技术分委员会电子、信息和通信工程师研究所硅材料和器件研究组。 49. 47 (2003)。
DOI：
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发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
近藤英一: "超臨界CO2中でのCu薄膜の堆積"LSI配線における原子輸送・応力問題第8回研究会(応用物理学会表面分科会主催),2002年7月. (2002)
Eiichi Kondo：“超临界 CO2 中铜薄膜的沉积”第 8 届 LSI 互连原子传输和应力问题研究会议（由日本应用物理学会表面小组委员会主办），2002 年 7 月。（2002 年）
Eiichi Kondo：“超临界 CO2 中铜薄膜的沉积”第 8 届 LSI 互连原子传输和应力问题研究会议（由日本应用物理学会表面小组委员会主办），2002 年 7 月。（2002 年）
DOI：
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发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
共 6 条
次世代集積回路配線と液体／金属接面in-situ計測：どこまでわかりどう使うか？
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批准号：22K04182
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$1.58万
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财政年份：2022
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负责人：近藤 英一
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依托单位：
超高密度流体中での動的溶解度制御を利用した形状敏感型自己整合ナノプロセス
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批准号：19026005
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额：$1.6万
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财政年份：2007
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负责人：近藤 英一
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依托单位：
海外基金