权益分类	功能权益	普通用户	{{item.name}}会员
{{category.name}}	{{benefitItem.name}}

金属ガラス合金の軽元素周辺の局所構造と結合状態

金属玻璃合金中轻元素周围的局部结构和键合状态

基本信息

批准号：
16039204
负责人：
花田貴
金额：
$ 2.88万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
2004
资助国家：
日本
起止时间：
2004 至 2005
项目状态：
已结题

项目摘要

金属ガラスでは主構成元素の原子半径が12%以上異なっていることが知られている。小さな原子は骨格となる大きな原子のランダム配列の間隙を埋めることによって、充填率と結合強度を上げる繋ぎの役割を果たすと考えられる。従って、高いガラス形成能の起源を探るうえで軽元素の役割を理解することは重要である。X線吸収微細構造(XAFS)測定で軽元素の吸収端を測定すれば軽元素周辺の局所構造が観測できるが、軽元素の吸収端は大気でも短距離で吸収される軟X線領域になるため、金属ガラスについては軽元素のXAFS測定がこれまで行われていなかった。そこで、He雰囲気でPd78Cu6Si16金属ガラスの軽元素SiのK吸収端XAFS測定を広島大HiSORのBL3で行った。計算と比較した結果、Si周辺の局所構造について第一近似としてはPd9Si2結晶と類似していることが分かった。Si周辺のPd配位数は8から10程度で、Si-Pd距離はPd9Si2結晶の場合より0.1Åほど小さい。このことからガラス状態では静的にランダムに揺らいだ配置をとるPdによってSiが圧迫されて押しつぶされていると見られる。アルゴンに酸素を含む雰囲でアニールされたPd78Cu6Si16では表面3μm程度の深さまでSiは酸化されており、Si周辺は4配位の酸素で囲まれている。軟X線領域にあるPdのL3吸収端XAFS測定によると、Pdは酸化されておらずPd周辺の局所構造はもともとPd同士の結合が主であるため、Siが酸化されても大きな変化は見られなかった。さらに、Cu周辺のK吸収端XAFS測定を高エネ研PFのBL9Aで行った結果、Cuも酸化の影響は受けず、組成から予想される通りCuの周辺構造はPdが主に配位しているモデルで合う。このことから、Siだけが選択的に酸化され金属ガラス表面にシリカガラスが析出していると考えられる。

The atomic radius of the main constituent element of the metal is more than 12%. Small atoms, small atoms, large atoms, small atoms, small To explore the origin of the formation energy of the elements, it is important to understand them. X-ray absorption fine structure (XAFS) determination of the absorption end of the element, determination of the local structure of the perimeter of the element, determination of the absorption end of the element, determination of the XAFS of the element, determination of the absorption end of the element, determination of the XAFS determination of K absorption of Si in Pd78Cu6Si16 metal and He 2O 3 The calculation results show that the structure of Si is similar to that of Pd9Si2. Si perimeter Pd coordination number from 8 to 10 degrees, Si-Pd distance from Pd9Si2 crystal case from 0.1 to small. This is the first time that the United States has made such a move. Pd78Cu6Si16 has a surface depth of 3μm. Si has a surface depth of 3μm. Si has a surface depth of 3μm. XAFS determination of Pd and L3 in soft X-ray field: Pd and Si are acidified, Pd and Si are acidified. XAFS determination of Cu perimeter K absorption end shows that the effect of Cu acidification on the structure of Cu perimeter is mainly coordinated with Pd. This is the first time that a metal has been deposited on the surface of a metal.