フォトクロミック分子単結晶表面における光誘起物質移動

光致变色分子单晶表面的光致传质

• 批准号: 20044015
• 负责人: 中野 英之
• 金额: $ 1.54万
• 依托单位: Osaka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• 财政年份: 2008
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2008 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-20044015/
• 关键词: 光誘起物質移動; 表面レリーフ回折格子形成; 単結晶; アゾベンゼン誘導体; フォトクロミズム; 干渉露光

アゾベンゼン系アモルファス材料を用いる光誘起表面レリーフ回折格子(SRG)形成が注目を集めている。これに対し、申請者はごく最近、4-(ジメチルアミノ)アゾベンゼン(DAAB)の単結晶の(001)面にも光誘起SRG形成が可能であることを明らかにしている。本研究は、さまざまなフォトクロミック化合物について、その単結晶を育成し、それらを用いる光誘起SRG形成を検討して、単結晶を用いる光誘起SRG形成の一般的な特徴を明らかにするとともに、SRG形成機構を解明することを目的としている。本年度は以下の成果を得た。4-(ジメチルアミノ)アゾベンゼン(DAAB)の単結晶の(100)面における光誘起SRG形成を検討し、(001)面と同様に(100)面でも光誘起SRG形成が可能であること、光誘起SRG形成の書込み光偏光依存性がアモルファス系とは異なることなどを明らかにするとともに、物質移動方向が明部から暗部に向かって誘起されていること、形成されたSRGの凸部に存在する分子がもとの結晶の配向と同様に配向していることを示唆する結果を得た。また、アモルファス形成能を有する4-[ビス(9,9-ジメチルフルオレン-2-イル)アミノ]アゾベンゼンの酢酸エチルとの共結晶を用いる光誘起SRG形成の検討を行い、光照射によって結晶表面にアモルファス層が形成されて、SRG形成能がアモルファス系と類似していることを明らかにした。さらに、別のアゾベンゼン系誘導体単結晶の表面にもSRGを形成させることができることを明らかにし、単結晶表面における光誘起SRG形成が一般的な現象であることを示した。

In this paper, we use the light to light up the surface and fold the lattice (SRG) to form an eye-catching collection. It is possible that the SRG may be caused by the light on the (001) surface of the DAAB, which is the most recent, the most recent. In this study, the chemical compounds were isolated, the compounds were bred, the SRG was formed by the photoluminescence, and the SRG formation mechanism was used to understand the purpose of the experiment. The following achievements have been made this year. 4-(DAAB). The results show that the SRG is lit on the (100th) side and the SRG is formed on the same side (100mm). It is possible that the SRG is formed, and the polarizing dependence on the polarized light is affected. The direction of movement of the object is displayed in the dark part of the device, and the convex part of the SRG is formed. There is a crystal of molecular alignment in the same direction. The results show that the results are satisfactory. The formation of the crystal is characterized by the formation of the SRG, the formation of the crystal, the formation of the crystal. On the surface of the crystal, the SRG is formed. The surface of the crystal is illuminated. The SRG is lit to form a general picture.

项目成果

Photoinduced Surface Relief Grating Formation Using Azobenzene-based Molecular Materials : N-(Binhenyl-4-yl)-N-(4'-methoxybiphenyl-4-yl)-4-phenylazoaniline

使用偶氮苯基分子材料形成光诱导表面浮雕光栅：N-(联芩基-4-基)-N-(4-甲氧基联苯-4-基)-4-苯基偶氮苯胺

• 发表时间: 2008
• 期刊: J. Photopolym. Sci. Tech 21
• 作者: 菊地あづさ;原田ゆかり;八木幹雄;守屋雄介;生方俊;横山泰;阿部二朗;H. Nakai;Y. Miyano;中井英隆;中井英隆;H. Nakai;宮野洋佑;中井英隆;宮野洋佑;鳥海幸四郎;H. Nakai;中井英隆;河合博和・藤本和久・井上将彦;河合博和・藤本和久・井上将彦;河合博和・岡田洋平・藤本和久・井上将彦;河合博和・藤本和久・井上将彦;岡田洋平・藤本和久・井上将彦;河合博和・藤本和久・井上将彦;H. Nakano
• 通讯作者: H. Nakano

Photoinduced Surface Relief Grating Formation Using Single Crystals of Azobenzene Derivatives

使用偶氮苯衍生物单晶形成光致表面浮雕光栅

• 发表时间: 2008
• 作者: 菊地あづさ;原田ゆかり;八木幹雄;守屋雄介;生方俊;横山泰;阿部二朗;H. Nakai;Y. Miyano;中井英隆;中井英隆;H. Nakai;宮野洋佑;中井英隆;宮野洋佑;鳥海幸四郎;H. Nakai;中井英隆;河合博和・藤本和久・井上将彦;河合博和・藤本和久・井上将彦;河合博和・岡田洋平・藤本和久・井上将彦;河合博和・藤本和久・井上将彦;岡田洋平・藤本和久・井上将彦;河合博和・藤本和久・井上将彦;H. Nakano;H. Nakano;H. Nakano;H. Nakano
• 通讯作者: H. Nakano

Photoinduced Surface Relief Grating Formation on a (100) Surface of a Single Crystal of 4-(Dimethylamino)azobenzene

• DOI: 10.1021/jp804853q
• 发表时间: 2008-10-16
• 期刊: JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C
• 影响因子: 3.7
• 作者: Nakano, Hideyuki

Photoinduced Surface Relief Grating Formation on a Co-crystal of 4-[Bis(9,9-dimethylfluoren-2-yl)amino]azobenzene and Ethyl Acetate

• DOI: 10.1002/cphc.200800419
• 发表时间: 2008-10-24
• 期刊: CHEMPHYSCHEM
• 影响因子: 2.9
• 作者: Nakano, Hideyuki