Controlling grain-boundary resistance of proton-conducting oxides by processing under oxidizing environments
通过在氧化环境下加工控制质子传导氧化物的晶界电阻
基本信息
- 批准号:16K18232
- 负责人:
- 金额:$ 2.66万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2020-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(2)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Hydrogenation of the wide-gap oxide semiconductor as a room-temperature and 3D-compatible electron doping technique
宽禁带氧化物半导体的氢化作为室温和 3D 兼容的电子掺杂技术
- DOI:10.1063/1.5055302
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:1.6
- 作者:Yajima T.;Oike G.;Yamaguchi S.;Miyoshi S.;Nishimura T.;Toriumi A.
- 通讯作者:Toriumi A.
緻密および多孔(La,Sr)CoO3におけるSr偏析
致密和多孔 (La,Sr)CoO3 中的 Sr 偏析
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Yajima T.;Oike G.;Yamaguchi S.;Miyoshi S.;Nishimura T.;Toriumi A.;三好正悟
- 通讯作者:三好正悟
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MIYOSHI Shogo其他文献
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- 资助金额:
$ 2.66万 - 项目类别:
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$ 2.66万 - 项目类别:
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$ 2.66万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists