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Fabrication of HfO2-based multiferroelctric ultrathin films by controlling crystalline phase

Fabrication of HfO2-based multiferroelctric ultrathin films by controlling crystalline phase
晶相控制制备HfO2基多铁电超薄膜
批准号：
16K18231
负责人：
Takahisa Shiraishi
金额：
$2.75万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-16K18231/
关键词：
HfO2基材料超薄膜準安定相強誘電性エピタキシャル成長蛍石型酸化物斜方晶相ドーパント添加ドメイン構造相転移温度フェロイック特性

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エピタキシャル成長法によるFe添加HfO2超薄膜の作製と結晶構造評価
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DOI： --
发表时间： 2016
期刊：
影响因子： --
作者： [白石貴久, Sujin Choi, 清水荘雄, 舟窪浩, 木口賢紀, 今野豊彦]
通讯作者： 今野豊彦
Fabrication of ferroelectric Fe doped HfO2 epitaxial thin films by ion-beam sputtering method and their characterization
DOI： 10.7567/jjap.57.11uf02
发表时间： 2018-08
期刊： Japanese Journal of Applied Physics
影响因子： 1.5
作者： [T. Shiraishi;Sujin Choi;T. Kiguchi;Takao Shimizu;H. Uchida;H. Funakubo;T. Konno]
通讯作者： T. Shiraishi;Sujin Choi;T. Kiguchi;Takao Shimizu;H. Uchida;H. Funakubo;T. Konno
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极性相CeO2-ZrO2固溶体超薄膜的制备
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发表时间： 2018
期刊：
影响因子： --
作者： [T. Shiraishi, S. Choi, T. Shimizu, T. Kiguchi, H. Funakubo, and T. J. Konno]
通讯作者： and T. J. Konno
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发表时间： 2017-11-01
期刊： MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
影响因子： 4.1
作者： [Shiraishi, Takahisa, Katayama, Kiliha, Funakubo, Hiroshi]
通讯作者： Funakubo, Hiroshi
共 8 条
    国内基金
    海外基金
    电子封装用聚酰亚胺超薄膜玻璃化转变及协同运动的表征与微观机制
    • 批准号：
      Z25E030022
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      --
    • 批准年份：
      2025
    • 负责人：
      左彪
    • 依托单位：
      浙江理工大学
    BiFeO3超薄膜铁电性的调控及物理机制研究
    • 批准号：
      12304122
    • 项目类别：
      青年科学基金项目
    • 资助金额：
      30万元
    • 批准年份：
      2023
    • 负责人：
      姚小康
    • 依托单位：
      辽宁大学
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    • 批准号：
      52373026
    • 项目类别：
      面上项目
    • 资助金额：
      52万元
    • 批准年份：
      2023
    • 负责人：
      张彬
    • 依托单位：
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    • 批准号：
      22375052
    • 项目类别：
      面上项目
    • 资助金额：
      50.00万元
    • 批准年份：
      2023
    • 负责人：
      刘雅玲
    • 依托单位：
      国家纳米科学中心