Fabrication of HfO2-based multiferroelctric ultrathin films by controlling crystalline phase
晶相控制制备HfO2基多铁电超薄膜
基本信息
- 批准号:16K18231
- 负责人:
- 金额:$ 2.75万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(11)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
エピタキシャル成長法によるFe添加HfO2超薄膜の作製と結晶構造評価
外延生长法制备Fe掺杂HfO2超薄膜及晶体结构评价
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:白石貴久;Sujin Choi;清水荘雄;舟窪浩;木口賢紀;今野豊彦
- 通讯作者:今野豊彦
Fabrication of ferroelectric Fe doped HfO2 epitaxial thin films by ion-beam sputtering method and their characterization
- DOI:10.7567/jjap.57.11uf02
- 发表时间:2018-08
- 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:T. Shiraishi;Sujin Choi;T. Kiguchi;Takao Shimizu;H. Uchida;H. Funakubo;T. Konno
- 通讯作者:T. Shiraishi;Sujin Choi;T. Kiguchi;Takao Shimizu;H. Uchida;H. Funakubo;T. Konno
Fabrication of CeO2-ZrO2 solid solution ultrathin films with polar phase
极性相CeO2-ZrO2固溶体超薄膜的制备
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Shiraishi;S. Choi;T. Shimizu;T. Kiguchi;H. Funakubo;and T. J. Konno
- 通讯作者:and T. J. Konno
Effect of the film thickness on the crystal structure and ferroelectric properties of (Hf0.5Zr0.5)O2 thin films deposited on various substrates
- DOI:10.1016/j.mssp.2016.12.008
- 发表时间:2017-11-01
- 期刊:
- 影响因子:4.1
- 作者:Shiraishi, Takahisa;Katayama, Kiliha;Funakubo, Hiroshi
- 通讯作者:Funakubo, Hiroshi
強誘電体(Hf,Ce)O2薄膜の作製とその結晶構造評価
铁电(Hf,Ce)O2薄膜的制备及其晶体结构评价
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Shiraishi;K. Katayama;T. Yokouchi;T. Shimizu;T. Oikawa;O. Sakata;H. Uchida;Y. Imai;T. Kiguchi;T. J. Konno;and H. Funakubo;白石貴久,Sujin Choi,清水荘雄,木口賢紀,舟窪浩,今野豊彦
- 通讯作者:白石貴久,Sujin Choi,清水荘雄,木口賢紀,舟窪浩,今野豊彦
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木口賢紀
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