Fabrication of HfO2-based multiferroelctric ultrathin films by controlling crystalline phase

晶相控制制备HfO2基多铁电超薄膜

基本信息

  • 批准号:
    16K18231
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.75万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 财政年份:
    2016
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2016-04-01 至 2019-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(11)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
エピタキシャル成長法によるFe添加HfO2超薄膜の作製と結晶構造評価
外延生长法制备Fe掺杂HfO2超薄膜及晶体结构评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    白石貴久;Sujin Choi;清水荘雄;舟窪浩;木口賢紀;今野豊彦
  • 通讯作者:
    今野豊彦
Fabrication of ferroelectric Fe doped HfO2 epitaxial thin films by ion-beam sputtering method and their characterization
  • DOI:
    10.7567/jjap.57.11uf02
  • 发表时间:
    2018-08
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    T. Shiraishi;Sujin Choi;T. Kiguchi;Takao Shimizu;H. Uchida;H. Funakubo;T. Konno
  • 通讯作者:
    T. Shiraishi;Sujin Choi;T. Kiguchi;Takao Shimizu;H. Uchida;H. Funakubo;T. Konno
Fabrication of CeO2-ZrO2 solid solution ultrathin films with polar phase
极性相CeO2-ZrO2固溶体超薄膜的制备
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Shiraishi;S. Choi;T. Shimizu;T. Kiguchi;H. Funakubo;and T. J. Konno
  • 通讯作者:
    and T. J. Konno
Effect of the film thickness on the crystal structure and ferroelectric properties of (Hf0.5Zr0.5)O2 thin films deposited on various substrates
強誘電体(Hf,Ce)O2薄膜の作製とその結晶構造評価
铁电(Hf,Ce)O2薄膜的制备及其晶体结构评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Shiraishi;K. Katayama;T. Yokouchi;T. Shimizu;T. Oikawa;O. Sakata;H. Uchida;Y. Imai;T. Kiguchi;T. J. Konno;and H. Funakubo;白石貴久,Sujin Choi,清水荘雄,木口賢紀,舟窪浩,今野豊彦
  • 通讯作者:
    白石貴久,Sujin Choi,清水荘雄,木口賢紀,舟窪浩,今野豊彦
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  • 影响因子:
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  • 作者:
    Yoshitaka Ehara;Shintaro Yasui;Takahiro Oikawa;Takahisa Shiraishi;Naoya Oshima;Tomoaki Yamada;Yasuhiko Imai;Osami Sakata and Hiroshi Funakubo
  • 通讯作者:
    Osami Sakata and Hiroshi Funakubo
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  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 影响因子:
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  • 作者:
    Takumi Shimizu;Takanori Kiguchi;Takahisa Shiraishi;Toyohiko J Konno
  • 通讯作者:
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  • 作者:
    Takahisa Shiraishi;Sujin Choi;Takanori Kiguchi;Toyohiko J. Konno
  • 通讯作者:
    Toyohiko J. Konno
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(Bi, Sm)FeO_3 薄膜中同形相边界的压电响应行为
  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shintaro Yasui;Yoshitaka Ehara;Takahisa Shiraishi;Takao Shimizu;Hiroshi Funakubo;Mitsuru Itoh;Yasuhiko Imai;Hiroo Tajiri;Osami Sakata;and Ichiro Takeuchi
  • 通讯作者:
    and Ichiro Takeuchi
直方晶相ハフニア薄膜におけるドメイン構造
矩形氧化铪薄膜中的畴结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Takumi Shimizu;Takanori Kiguchi;Takahisa Shiraishi;Toyohiko J Konno;木口賢紀
  • 通讯作者:
    木口賢紀

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  • 通讯作者:
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