课题基金 / 基金详情

ガス絶縁の性能向上(SF_6)に関する基礎的研究 Spark Channel 形成過程

ガス絶縁の性能向上(SF_6)に関する基礎的研究 Spark Channel 形成過程
气体绝缘性能提升（SF_6）火花通道形成过程的基础研究
批准号：
X00210----175142
负责人：
下妻 光夫
金额：
$0.22万
依托单位：
Hokkaido University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1976
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1976 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-X00210----175142/
关键词：

项目摘要

项目成果

下妻 光夫的其他基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
プラズマCVD法による微細トレンチ内壁へのTiN膜低温形成基礎研究
  • 批准号：
    07650351
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $1.41万
  • 财政年份：
    1995
  • 负责人：
    下妻 光夫
  • 依托单位：
    Hokkaido University
50HzプラズマCVDによるSiOx膜のGaAs表面保護膜低温形成基礎研究
  • 批准号：
    06650346
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $1.28万
  • 财政年份：
    1994
  • 负责人：
    下妻 光夫
  • 依托单位：
    Hokkaido University
低周波プラズマCVD法によるポリマー上へのSi0x膜低温堆積に関する基礎研究
  • 批准号：
    04650254
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $1.28万
  • 财政年份：
    1992
  • 负责人：
    下妻 光夫
  • 依托单位：
    Hokkaido University
低周波放電のプロセスプラズマとしての適用とその制御法の開発
  • 批准号：
    02214201
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $0.9万
  • 财政年份：
    1990
  • 负责人：
    下妻 光夫
  • 依托单位：
    Hokkaido University