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SF_6 およびフロン系ガスによる電力機器ガス絶縁に関する基礎的研究

SF_6 およびフロン系ガスによる電力機器ガス絶縁に関する基礎的研究
SF_6和氟碳气体电力设备气体绝缘基础研究
批准号：
60550187
负责人：
下妻 光夫
金额：
$1.34万
依托单位：
Hokkaido University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1985
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1985 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-60550187/
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プラズマCVD法による微細トレンチ内壁へのTiN膜低温形成基礎研究
  • 批准号：
    07650351
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $1.41万
  • 财政年份：
    1995
  • 负责人：
    下妻 光夫
  • 依托单位：
    Hokkaido University
50HzプラズマCVDによるSiOx膜のGaAs表面保護膜低温形成基礎研究
  • 批准号：
    06650346
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $1.28万
  • 财政年份：
    1994
  • 负责人：
    下妻 光夫
  • 依托单位：
    Hokkaido University
低周波プラズマCVD法によるポリマー上へのSi0x膜低温堆積に関する基礎研究
  • 批准号：
    04650254
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $1.28万
  • 财政年份：
    1992
  • 负责人：
    下妻 光夫
  • 依托单位：
    Hokkaido University
低周波放電のプロセスプラズマとしての適用とその制御法の開発
  • 批准号：
    02214201
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $0.9万
  • 财政年份：
    1990
  • 负责人：
    下妻 光夫
  • 依托单位：
    Hokkaido University