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電子ビーム蒸着によるアモルファスシリコーンカーバイトの作成と深い準位の解明

電子ビーム蒸着によるアモルファスシリコーンカーバイトの作成と深い準位の解明
通过电子束蒸发制备非晶碳化硅并阐明深层能级
批准号：
56750198
负责人：
安井 寛治
金额：
$0.51万
依托单位：
Nagaoka University of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1981
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1981 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-56750198/
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炭化ケイ素-高密度ゲルマニウムナノドット積層構造の形成と量子ドットレーザへの応用
  • 批准号：
    20045005
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $1.41万
  • 财政年份：
    2008
  • 负责人：
    安井 寛治
  • 依托单位：
    Nagaoka University of Technology
New catalytic reaction assisted chemical vapor deposition using a catalyst functioning at low temperatures
  • 批准号：
    18560019
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $2.35万
  • 财政年份：
    2006
  • 负责人：
    安井 寛治
  • 依托单位：
    Nagaoka University of Technology
有磁場マイクロ波プラズマ励起水素イオンビームによるシリコンカーバイト膜の低温成長
  • 批准号：
    03750219
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额：
    $0.64万
  • 财政年份：
    1991
  • 负责人：
    安井 寛治
  • 依托单位：
    Nagaoka University of Technology
マイクロ波励起による原子状水素を用いたシリコンナイトライド膜の合成
  • 批准号：
    01750260
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额：
    $0.51万
  • 财政年份：
    1989
  • 负责人：
    安井 寛治
  • 依托单位：
    Nagaoka University of Technology