励起状態のX線構造解析

激发态X射线结构分析

• 批准号: 08740432
• 负责人: 竹中 康之
• 金额: $ 0.64万
• 依托单位: Hokkaido University of Education
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 1996
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1996 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-08740432/
• 关键词: X線結晶構造解析; 励起状態; コバロキシム錯体

コバルト-炭素結合を有するコバロキシム錯体の結晶に光を照射すると、コバルト-炭素結合が切断し、ラジカルが生ずる。この光照射時の励起状態の構造についてX線回折法により測定しようというのが本研究の目的である。まず、アルキル基としてR-1-シアノエチル基、塩基としてS-フェニルエチルアミン・ピリジンおよびジエチルフェニルホスフィンを持つコバロキシム錯体を合成した。予備測定として、まず始めに、S-フェニルエチルアミンおよびピリジンを持つ試料のエタノール溶液の吸収スペクトルを測定した。その結果、S-フェニルエチルアミンを有する錯体は415nm付近に、ピリジン錯体は430nm付近にごく弱い吸収ピークが見られた。次に、これらの試料のメタノール溶液および粉末の蛍光スペクトルを測定した。波長415-430nmの光のほかに350-550nmの光を励起光として使用したが、顕著な蛍光は見られなかった。ジエチルフェニルホスフィンを持つ錯体の結晶について、四軸型X線回折計を用いて測定を行った。測定は、装置全体を黒い模造紙で覆い暗室状態とした場合およびキセノンランプで結晶を照射しながらのふたつの場合について行った。ジエチルフェニルホスフィンを持つ錯体を選んだのは、光照射によっても固相反応が進行しないことがわかっているからである。現在データ解析を進めている。

The crystal of the carbon-carbon bond is irradiated with light, the carbon-carbon bond is cut off, and the crystal is formed. The structure of excitation state under light irradiation is determined by X-ray reflection method, which is the purpose of this study. The R-1 Prepare for the determination of the absorbance of the sample solution. As a result, the S-ray absorption spectrum is very weak at 415nm, and the S-ray absorption spectrum is weak at 430nm. In the second place, the sample solution and the powder solution were determined. The wavelength of light from 415 to 430nm is different from that of light from 350 to 550nm. The crystal structure of the crystal is determined by a four-axis X-ray refractometer. Measurement of the whole apparatus in the dark room, in the case of crystallization, in the case of irradiation In addition to the above, it is also necessary to select the wrong body and light irradiation to carry out solid phase reaction. Now the analysis of the data is in progress.