CONTRIBUTION OF FLOATING BONDS TO LIGHT-INDUCED DEGRADATION OF HYDROGENATED AMORPHOUS SILICON
浮动键对氢化非晶硅光致降解的贡献
基本信息
- 批准号:09650010
- 负责人:
- 金额:$ 2.11万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:1997
- 资助国家:日本
- 起止时间:1997 至 1998
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Relation between the randomeness of amorphous network and the creation of defects was first investigated in an amorphous system of a-Ge_<1-x> C_x : H films which contains constituent atoms with largely different covalent radii, and compared the results with those in a-Ge_<1-x>Si_x, : H films which contains constituent atoms with close covalent radii. It. was found that the addition of C atoms makes the films stricture more random and increase the Ge dangling bonds per Ge atoms.Next we measured the spin-lattice relaxation time T_1 of Si dangling bonds and its dependence on the light-soaking time in a-Si : H.It was found that T_1 has a fairly good correlation with the randomness of the amorphous network estimated from the Urbach energy. It was also found that T_1's for the broad and narrow component signals of the light-induced ESR decreases by light-soaking, in contrast to that for the dark component. This might be an important clue to judge whether the origin of the broad component of the light-induced ESR comes from the floating bonds.Finally we tried to explain the defect creation processes by the light-soaking and electron-beam irradiation, using rate equations based on a model in which the floating bonds contribute to create dangling bonds.
本文首先研究了组成原子共价半径相差很大的a-Ge_<1-x> C_x: H薄膜的非晶态网络的随机性与缺陷产生的关系,并与组成原子共价半径相近的a-Ge_<1-x>Si_x,: H薄膜的结果进行了比较。它。发现C原子的加入使薄膜的结构更加随机,并增加了每个Ge原子的Ge悬空键。接下来,我们测量了Si悬空键的自旋晶格弛豫时间T_1及其与a-Si: h中光浸泡时间的关系,发现T_1与由Urbach能量估计的非晶网络的随机性有很好的相关性。光诱导ESR的宽组分和窄组分信号的T_1值比暗组分信号的T_1值降低。这可能是判断光诱导ESR的宽组分是否来源于浮动键的重要线索。最后,我们试图通过光浸泡和电子束照射来解释缺陷的产生过程,使用基于模型的速率方程,其中浮动键有助于产生悬浮键。
项目成果
期刊论文数量(10)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
M.Kumeda, T.Ryuda and T.Shimizu: "Rate equation for creation and annihilation of metastable defects in a-Si : H (in Japanese)" Proc.Annual Meet.of Jpn.Soc.Appl.Phys., Noda, March. 29p-YD-2 (1998)
M.Kumeda、T.Ryuda 和 T.Shimizu:“a-Si 中亚稳态缺陷的产生和消除的速率方程:H(日语)”Proc.Annual Meet.of Jpn.Soc.Appl.Phys.、Noda,
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- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
M.KUMEDA, A.MASUDA and T.SHIMIZU: "Structural Studies on Hydrogenated Amorphaus Germanium-Carbon Films Prepared by RF Sputtering" Jpn.J.Appl.Phys.37・4(発表予定). (1998)
M.KUMEDA、A.MASUDA 和 T.SHIMIZU:“通过射频溅射制备氢化非晶锗碳薄膜的结构研究”Jpn.J.Appl.Phys.37・4(待发表)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
M.Kumeda, A.Masuda and T.Shimizu: "Structural studies on hydrogenatedred amorphous germanium-carbon films prepa by rf sputtering" Jpn.J.Appl.Phys.Vol.34, No.4. 1754-1759 (1998)
M.Kumeda、A.Masuda 和 T.Shimizu:“通过射频溅射制备氢化红色非晶锗碳薄膜的结构研究”Jpn.J.Appl.Phys.Vol.34,No.4。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
立田哲夫,本田 聡,竹橋由浩,久米田 稔,清水立生: "電子線照射による水素化アモルファス シリコンの欠陥生成(II)" 平成10年度日本物理学会・応用物理学会北陸・信越支部合同講演会 講演予稿集. 43-43 (1998)
Tetsuo Tateta、Satoshi Honda、Yoshihiro Takehashi、Minoru Kumeda、Tatsuo Shimizu:“电子束照射在氢化非晶硅中的缺陷生成(II)”在1998年日本物理学会和北陆信越分会联席会议上的演讲应用物理学会会刊 43-43 (1998)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
T.SHIMIZU,K.KATA,M.HITANI and M.KUMEDA: "Change of Spin-Lattice Relaxation Time with Light Soaking for Detects in Hydrogenated Amorphous Silicon" Jpn.J.Appl.Phys.37・10. 5470-5473 (1998)
T.SHIMIZU、K.KATA、M.HITANI 和 M.KUMEDA:“氢化非晶硅检测中自旋晶格弛豫时间的变化”Jpn.J.Appl.Phys.37・10( 1998)
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Role of dangling bonds for the photoluminescence of Er doped in a-Si : H
悬挂键对非晶硅中掺铒光致发光的作用:H
- 批准号:
16560005 - 财政年份:2004
- 资助金额:
$ 2.11万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)