Nanofabrication of semiconductors based on Voronoi tessellation in two-dimensional space

二维空间中基于 Voronoi 镶嵌的半导体纳米加工

基本信息

  • 批准号：
    26420744
  • 负责人：
    Asoh Hidetaka
  • 金额：
    $ 3.24万
  • 依托单位：
    Kogakuin University
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份：
    2014
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2014-04-01 至 2017-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（14）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
種々のエッチャントを用いたGaAsの湿式エッチング
使用各种蚀刻剂对 GaAs 进行湿法蚀刻
  • DOI：
  • 发表时间：
    2014
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    S. Ono;阿相英孝，小野幸子;大野宗一;伊藤大喜，阿相英孝，小野幸子
  • 通讯作者：
    伊藤大喜，阿相英孝，小野幸子
金属触媒エッチングによるGaAsナノピラーの作製
金属催化蚀刻制备砷化镓纳米柱
  • DOI：
  • 发表时间：
    2016
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    G. Sasaki;T. Hirose;K. Sugio;Y. B. Choi;K. Matsugi;Ryo Amane and Hirofumi Inoue;今井涼太，橋本英樹，阿相英孝
  • 通讯作者：
    今井涼太，橋本英樹，阿相英孝
Fabrication of nanostructured semiconductor surfaces using anodic porous alumina and metal-assisted chemical etching
使用阳极多孔氧化铝和金属辅助化学蚀刻制造纳米结构半导体表面
  • DOI：
  • 发表时间：
    2016
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    H. Asoh;H. Hashimoto and S. Ono
  • 通讯作者：
    H. Hashimoto and S. Ono
工学院大学　先進工学部　応用化学科　無機表面化学研究室
工学院大学先端工学部应用化学系无机表面化学实验室
  • DOI：
  • 发表时间：
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
  • 通讯作者：
Fabrication of InP Microhole Arrays by Site-selective Anodic Etching and Subsequent Chemical Etching
通过选点阳极蚀刻和后续化学蚀刻制造 InP 微孔阵列
  • DOI：
  • 发表时间：
    2014
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    山田将大;入谷英司;H. Asoh and S. Ono
  • 通讯作者：
    H. Asoh and S. Ono
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI：
    {{ item.doi }}
  • 发表时间：
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊：
    {{ item.journal_name }}
  • 影响因子：
    {{ item.factor }}
  • 作者：
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者：
    {{ item.author }}

数据更新时间：{{ patent.updateTime }}

Asoh Hidetaka其他文献

Bright greenish-yellow pigments based on Sc2-xFexO3 solid solutions with bixbyite structure
基于具有方铁锰矿结构的 Sc2-xFexO3 固溶体的亮绿黄色颜料
  • DOI：
    10.1016/j.materresbull.2018.09.035
  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
    Materials Research Bulletin
  • 影响因子：
    5.4
  • 作者：
    Hashimoto Hideki;Sayo Kotaro;Asoh Hidetaka;Fujii Tatsuo;Takano Mikio;Masuno Atsunobu
  • 通讯作者：
    Masuno Atsunobu
パルスレーザー堆積法により作製したSiCN薄膜の構造と機械的性質
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  • DOI：
  • 发表时间：
    2022
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
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  • 通讯作者：
    河原碩仁 ・ 伊藤公秀 ・ 青井芳史 ・ 野瀬正照

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI：
    {{ item.doi }}
  • 发表时间：
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊：
    {{ item.journal_name }}
  • 影响因子：
    {{ item.factor }}
  • 作者：
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者：
    {{ item.author }}
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Systematic understanding and application of chemical etching of compound semiconductors
化合物半导体化学刻蚀的系统理解与应用
  • 批准号：
    17K06866
  • 财政年份：
    2017
  • 资助金额：
    $ 3.24万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
{{ showInfoDetail.title }}

作者：{{ showInfoDetail.author }}

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