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Nanofabrication of semiconductors based on Voronoi tessellation in two-dimensional space

Nanofabrication of semiconductors based on Voronoi tessellation in two-dimensional space
二维空间中基于 Voronoi 镶嵌的半导体纳米加工
批准号：
26420744
负责人：
Asoh Hidetaka
金额：
$3.24万
依托单位：
Kogakuin University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2014-04-01 至 2017-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-26420744/
关键词：
ナノ材料材料加工・処理自己組織化半導体

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種々のエッチャントを用いたGaAsの湿式エッチング
使用各种蚀刻剂对 GaAs 进行湿法蚀刻
DOI： --
发表时间： 2014
期刊：
影响因子： --
作者： [S. Ono, 阿相英孝，小野幸子, 大野宗一, 伊藤大喜，阿相英孝，小野幸子]
通讯作者： 伊藤大喜，阿相英孝，小野幸子
金属触媒エッチングによるGaAsナノピラーの作製
金属催化蚀刻制备砷化镓纳米柱
DOI： --
发表时间： 2016
期刊：
影响因子： --
作者： [G. Sasaki, T. Hirose, K. Sugio, Y. B. Choi, K. Matsugi, Ryo Amane and Hirofumi Inoue, 今井涼太，橋本英樹，阿相英孝]
通讯作者： 今井涼太，橋本英樹，阿相英孝
Fabrication of nanostructured semiconductor surfaces using anodic porous alumina and metal-assisted chemical etching
使用阳极多孔氧化铝和金属辅助化学蚀刻制造纳米结构半导体表面
DOI： --
发表时间： 2016
期刊：
影响因子： --
作者： [H. Asoh, H. Hashimoto and S. Ono]
通讯作者： H. Hashimoto and S. Ono
工学院大学　先進工学部　応用化学科　無機表面化学研究室
工学院大学先端工学部应用化学系无机表面化学实验室
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
共 14 条
    Systematic understanding and application of chemical etching of compound semiconductors
    • 批准号：
      17K06866
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $3.0万
    • 财政年份：
      2017
    • 负责人：
      Asoh Hidetaka
    • 依托单位：
      Kogakuin University