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電気的・光学的手法による半導体-金属界面固相反応層の微視的構造の解明

電気的・光学的手法による半導体-金属界面固相反応層の微視的構造の解明
利用电学和光学方法阐明半导体-金属界面固相反应层的微观结构
批准号：
59550220
负责人：
奥村 次徳
金额：
$1.47万
依托单位：
Tokyo Metropolitan University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1984
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1984 至 1985
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-59550220/
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エピタキシャル成長層での光電効果を利用した不純物ドーピング制御の試み
  • 批准号：
    16656013
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 资助金额：
    $1.98万
  • 财政年份：
    2004
  • 负责人：
    奥村 次徳
  • 依托单位：
    Tokyo Metropolitan University
化合物半導体ウェーハ加工に伴う研磨屑の回収・再利用に関する基礎的研究
  • 批准号：
    11875076
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 资助金额：
    $1.34万
  • 财政年份：
    1999
  • 负责人：
    奥村 次徳
  • 依托单位：
    Tokyo Metropolitan University
ショットキー障壁形成機構解明のための電気化学的アプローチ
  • 批准号：
    05650030
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $1.28万
  • 财政年份：
    1993
  • 负责人：
    奥村 次徳
  • 依托单位：
    Tokyo Metropolitan University
顕微光応答法による金属‐半導体界面反応層のミクロ解析
  • 批准号：
    03216211
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $0.51万
  • 财政年份：
    1991
  • 负责人：
    奥村 次徳
  • 依托单位：
    Tokyo Metropolitan University