Dynamische in situ-Untersuchung der Entstehung von kompressiven Spannungen in Bornitrid-Schichten und des Einflusses von Verunreinigungen und Wachstumsparametern

动态原位研究氮化硼层中压应力的发展以及杂质和生长参数的影响

基本信息

项目摘要

Ziel des beantragten Vorhabens ist die Reduzierung der intrinsischen kompressiven Spannungen in Schichten aus kubischem Bornitrid (c-BN). Dieses Ziel soll durch die Verbesserung des Verständnisses der zu den Spannungen führenden Mechanismen erreicht werden. Durch die simultane dynamische in-situ-Messung der Spannungen (tiefenaufgelöst) in Kombination mit in-situ-Ellipsometrie und die dynamische Phasenanalyse der aufwachsenden BN-Schicht mit in-situ-IR-Spektroskopie wird der Einfluß von Änderungen der Depositions-Parameter auf die Spannung und die Phasenbildung dynamisch analysiert. Hierbei wird insbesondere die Parametergrenze für den Übergang von c-BN nach h-BN mit Hinblick auf die Minimierung der intrinsischen Spannungen untersucht.Die abgeschiedenen BN-Schichten werden ex-situ hinsichtlich ihrer Zusammensetzung (mit Rutherford Backscattering Spectroskopy - RBS, Elastic Recoil Detection - ERD) und Struktur (HRTEM, Generalized Ellipsometry - GE) analysiert. Der Einfluß der Konzentration der natürlichen Verunreinigungen (O, Fe, W, Ar) in den unter Hochvakuum-(HV-)Bedingungen mit Hilfe der ionenstrahlgestützten Schichtabscheidung (IBAD) hergestellten BN-Schichten auf die Spannungen wird untersucht. Hierzu werden Schichten unter Ultrahochvakuum-(UHV-)Bedingungen durch Magnetron-Sputtern hergestellt und in-situ die inneren Spannungen und die BN-Phasenbildung analysiert.
Zil des beantragten Vorhabens ist die Reduzierung der ininsischen kompressiven Spannungen in Schichten Aus kubichem Bornitid(c-BN).所有的机械师都犯了错误。在Kombination MIT的现场省略分析和动态相分析中进行了现场同步动态分析-IR-Spektroskopie wird der Eifu?von Anénderungen der Der Defluévon An derderungen Dder Der Defluévon An derderungen der Desitions-参数auf die Spannung and die Phasenbildung Dynamisch Analysiert。这是一种基于参数的测量方法,适用于HRTEM(MIT Rutherford后向散射光谱-RBS,弹性反冲检测-ERD)和结构分析(HRTEM,广义椭圆法-GE)。在德国-(HV-)Bedingungen MIT Hilfe der Ionestrahlgten Schichtabscheidung(IBAD)Hersterellten BN-Schichten auf die Spannungen Wird Untersuht中,Der Efluüder der Konzentation der natürlichen Verunreigungen(O,Fe,W,Ar)in den Under Hochvakuum-(HV-)Bedingungen MIT Hilfe der Ionen strahlgten Schichtabscheidung(IBAD)hersterellten BN-Schichten auf die spannungen wird unterht。在超高真空(UHV-)Bedingungen(UHV-)Bedingungen磁控溅射(Magnetron-Sputtern hergellt)和原位(in-inneren spannungen)和BN-Phasenbildung分析的基础上,对Her-zu进行了Schichten Schichten和BN-Bedingungen的分析。

项目成果

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