シリコン膜形成過程における吸着シラン分子層の炭酸ガス・レーザ照射効果
シリコン膜形成過程における吸着シラン分子層の炭酸ガス・レーザ照射効果
硅成膜过程中二氧化碳气体和激光照射对吸附硅烷分子层的影响
批准号：
61750287
负责人：
目黒 多加志
金额：
$0.45万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1986
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1986 至 --
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会议论文
低速多価イオンビームによる原子操作
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批准号：11222207
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (B)
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资助金额：$33.02万
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财政年份：1999
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负责人：目黒 多加志
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依托单位：
コヒーレント光を用いた表面原子の一括操作法の開発研究
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批准号：11875159
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项目类别：Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额：$0.58万
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财政年份：1999
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负责人：目黒 多加志
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依托单位：
原子層エッチング技術の開発研究
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批准号：04452097
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项目类别：Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
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资助金额：$4.35万
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财政年份：1992
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负责人：目黒 多加志
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依托单位：