シクロデキストリン存在下におけるハロゲン化芳香族化合物の光脱ハロゲン化反応
环糊精存在下卤代芳香族化合物的光脱卤反应
基本信息
- 批准号:62550610
- 负责人:
- 金额:$ 0.9万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
- 财政年份:1987
- 资助国家:日本
- 起止时间:1987 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
ハロゲンで置換したフェノール類やビフェニール類の光分解がシクロデキストリン類(CD)の存在によって還元的脱ハロゲン化が起こり, それぞれフェノールやビフェニールが生成することが判明した. 水中に極々少量溶解あるいは懸濁しているハロゲン化芳香族化合物の光脱ハロゲン化反応は環境汚染との関連から興味ある結果が得られたので, その概要を報告する. ハロフェノールの光脱ハロゲン化-ρ-クロルフェノール(10^<-3>M)に対して, 10倍量のβ-CDを加えて水中に溶解し, 100W-Hgランプにて30分照射したところ, Cl基がHに置き変わったフェノールが定量的に生成した. β-CDがない, あるいはβ-CDの代りに包接能力を有しないトレハロースを用いて, 同様に光照射を行なったところ, フェノールの生成は認められなかった. このことからフェノールの生成はβ-CDの包接作用が働らいていることが示唆される. m-クロルフェノールの反応性は極わめて但く, 同じ条件では基質がそのまゝ回収された. 2,3,4-トリクロルフェノールのβ-CD存在下での光脱クロル化反応もまた, 主生成物として, 2,3-ジクロルフェノール, m-クロルフェノールが生成した. ハロゲン化ビフェニールの光脱ハロゲン化-4-クロルビフェニールや4,4′-ジクロルビフェニールはβ-CD水溶液中においては, β-CDと包接化合物を形成して沈殿するので, マルトシルCD(商品名:イソエリート)によって加溶化した. マルトシルCD水溶液に加溶化した4-クロルビフェニールの光照射では, 分解した基質に対して, 65〜75%の収率で, ビフェニールが生成した. また, 4,4′-ジクロルビフェニールの場合も還元的脱クロル化が優先して起こり, 4-クロルビフェニール, ビフェニールが生成した. 以上のことから, この光反応はCDと包接化合物を形成することによって殆ぼ選択的に進むことが分った.
The light decomposition of the group CD exists in the presence of the group CD, and the light decomposition of the group CD results in the formation of the group CD. A summary of the results obtained from the study on the relationship between light emission and environmental pollution of aromatic compounds dissolved in very small amounts of water and suspended in water is reported. For <-3>example, 10 times the amount of β-CD dissolved in water, 100W-Hg dissolved in 30 minutes of irradiation, Cl group was quantitatively produced.β-CD can be replaced by β-CD, which can be used in the same way as light irradiation. The inclusion of β-CD in the formation of β-CD. m- In the presence of 2,3,4-CD, the photodegradation reaction occurs, and the main product, 2,3-CD, m-CD, occurs. In aqueous solution of β-CD, the inclusion compound of β-CD is formed and solubilized. The aqueous solution of CD is solubilized by light irradiation, and the matrix is decomposed at a yield of 65 ~ 75%. , 4,4′- The above mentioned compounds are formed by the inclusion of CD and CD in the optical reflection system.
项目成果
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