ガンスフェロマク閉じ込めにおける開口部の磁気チョーキング

ganspheromak 限制中孔径的磁窒

• 批准号: 62580005
• 负责人: 西川 雅弘
• 金额: $ 1.54万
• 依托单位: Osaka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
• 财政年份: 1987
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1987 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-62580005/
• 关键词: ガンスフェロマク; FC内で完全に閉じた配位; 磁気チョーキングコイル; 配位整形; リミター作用; フラックスホール; プラズマ閉じ込め特性; 粒子閉じ込め

磁化同軸ガンでプラズマを生成し金属導体(FC)に閉じ込めを行うCTCC-IIスフェロマク実験において, FCの入射口部の磁場配位の不整を軽減するために付加的な外部磁場による配位整形実験をおこない, 現在のところ以下の結果を得ている. プラズマの抵抗性減衰過程において傾斜型不安定性を生じる事なくFC内で安全に閉じた配位を実現した. また, 外部磁場用コイルのケーシング(SUS)のリミター作用によると考えられるフラックスホールが幾何学中心部に形成されており, 外部磁場印加条件によってその生成に変化があることが分かった. スフェロマクプラズマでは磁気シアーとFC壁のみがプラズマの安定性に寄与しているため, 従来幾何学中心に導体を挿入してこのシアーの強化を図ってきたが, フラックスホールの形成によって導体を挿入せずともシアーを強化出来る可能性が出てきた. プラズマ生成以前に外部磁場を印加した場合(Bias mode)にはフラックスホールが形成されず, そのとき生成されたプラズマの電子密度はかなり高く, 比較的プラズマ生成初期において粒子閉じ込めが向上している事が分かった. プラズマ生成後に外部磁場を印加した場合(Delayed mode)にはフラックスホールは形成されるが, 粒子閉じ込めに関してはBias modeと同様な傾向がみられた. しかし, 特にBias modeではフラックスホールが形成されないためプラズマとFC壁との相互作用が増し, そのために不純物の流入も増加する傾向にあり, 外部磁場印加によるプラズマ閉じ込めに与える影響は現在のところ明確とは言えない. 今後の課題として今回の実験で得られたフラックスホールの特性を十分生かすため, Bias modeにおいてもフラックスホールを形成しうるようリミター形状等を工夫することが挙げられる. それにより外部磁場印加によるプラズマ閉じ込め特性に与える影響が今後より顕著になることが期待できる.

Magnetized coaxial metal conductor (FC) metal conductor (FC), CTCC-II magnetized metal conductor, The uneven magnetic field coordination at the entrance of the FC is reduced by the external magnetic field coordination and shaping, and now the following results are obtained.プラズマのresistant attenuation processにおいてinclined instabilityを生じる事なくFC内で安全にclosureじたcoordinationを実appearした.また, External magnetic field is used for the action of SUS (SUS)と卡えられるフラックスホールがgeometric center part に Formation されており, The conditions for external magnetic field application are generated and transformed into があることが分かった.スフェロマクプラズマではMagnetic 気シアーとFC wall のみがプラズマの stability に Send and しているため, The geometric center of the conductor is inserted into the conductor, and the conductor is reinforced.フラックスホールの Formationによって ConductorをInsertせずともシアーをStrengthen outるPossibilityが出てきた. Before the プラズマ is generated, the external magnetic field is used in the case of Inca (Bias mode), and the にはフラックスホールが is formed.そのときGenerationされたプラズマのelectron densityはかなり高く, Comparison of the initial stage of プラズマ generation, において particle closed, じ込めが upward, している事が分かった. プラズマ, after generation, に external magnetic field, をInca した occasion (Delayed mode)にはフラックスホールは Formationされるが, Particle closedじ込めに OffしてはBias modeと同様なTendencyがみられた.しかし,特にBias modeではフラックスホールが FormationされないためプラズマとFCWallとのInteractionが嗗し, The inflow of impurities and the increasing tendency of impurities External magnetic field Inca によるプラズマclosed じ込めに and える influenced はnow のところclear とは语えない. The future problem is the current issue, the current issue is the current issue, the character is very raw, Bias Modeにおいてもフラックスホールを Formation しうるようリミターShape etc. することがげられる. それによりExternal magnetic field imprinted によるプラズマclosed じ込めcharacteristics に and える がIn the future より顕与になることがlook forward to できる.

项目成果

加藤裕史: 工学報告. 38. (1988)

加藤浩：工程报告 38。（1988）