ジメチルアルミニウムクロライドを用いた混成励起CVD法によるAl薄膜の形成
ジメチルアルミニウムクロライドを用いた混成励起CVD法によるAl薄膜の形成
使用二甲基氯化铝通过混合激发CVD法形成Al薄膜
批准号：
62750250
负责人：
益 一哉
金额：
$0.64万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1987
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1987 至 --
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マイクロメカニクス技術を用いたGHz帯可変インダクタの開発
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批准号：14655132
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项目类别：Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额：$2.05万
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财政年份：2002
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负责人：益 一哉
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依托单位：
超高速マイクロ構造伝送配線の開発とRF駆動回路の研究
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批准号：13025218
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额：$40.51万
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财政年份：2001
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负责人：益 一哉
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依托单位：