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走査型トンネル電子分光による金属-半導体界面の形成過程の研究

走査型トンネル電子分光による金属-半導体界面の形成過程の研究
扫描隧道电子能谱研究金属-半导体界面形成过程
批准号:
01750654
负责人:
富取 正彦
金额:
$0.51万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1989
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1989 至 --
关键词:

项目摘要

项目成果

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