Anfangsstadien der Hochtemperaturoxidation mit Hilfe der In-situ-Raster-Tunnelmikroskopie

点击翻译按钮获取中文摘要

Der Einsatzbereich vieler metallischer Werkstoffe wird bei hohen Temperaturen durch ihre Oxidationsbeständigkeit beschränkt. Eine genügende Beständigkeit wird im allgemeinen nur durch dichte, langsam wachsende und gut haftende Deckschichten erreicht. Haftungsverluste der Deckschichten, die häufig durch Temperatursprünge verursacht werden, stellen somit eine erhebliche Gefährdung des Werkstoffes dar. Um diese Prozesse verstehen zu können, ist es erforderlich, den Aufbau der Phasengrenze zwischen dem Substrat und der Deckschicht detailliert zu kennen.In diesem Forschungsvorhaben soll erstmalig versucht werden, den Aufbau der Phasengrenze in situ, d.h. unter eingestellten Reaktionsbedingungen und bei hohen Temperaturen, mit möglichst atomarer Auflösung zu verfolgen. Hierzu ist ein UHV-Tunnelmikroskop aufgebaut worden, das eine tunnelmikroskopische Untersuchung auch bei hohen Temperaturen gestattet. Ziel des Vorhabens ist es, an einfachen Modellsubstraten und an einer intermetallischen Phasen den Übergang von einer SauerstoffChemieisorptionsschicht zu einer 3-dimensionalen Oxidschicht zu verfolgen und das Verhalten der dünnen Oxidschicht bei einem Temperaturwechsel zu studieren.