シリカモルイヤ-の酸性質とその触媒活性

桑白炭的酸性性质及其催化活性

• 批准号: 02650583
• 负责人: 丹羽 幹
• 金额: $ 0.83万
• 依托单位: Nagoya University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
• 财政年份: 1990
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1990 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-02650583/
• 关键词: 化学蒸着法; 固体酸; シリカモノレイヤ-; テトラメトキシシラン

CVD(化学蒸着)法によってテトラメトキシシラン、Si(OCH_3)_4を担体Al_2O_3,TiO_2,ZrO_2上に蒸着し、加水分解処理および酸素焼成によって、シリカのオ-バ-レイヤ-を酸化物上に調製した。キャラクタリゼ-ションとテスト反応の結果以下の事実を得た。(1)シラン化合物は担体の酸化物と優先的に反応蒸着し、モノレイヤ-を構成し、90%以上の酸化物表面を覆う。さらに、蒸着すると、シリカの第二層が成長する。(2)シリカモノレイヤ-は弱いBronsted酸をもつことがわかった。その強度は弱く、ブテンの異性化や二級および三級アルコ-ルの脱水反応に有効である。(3)得られた酸の強さはAl_2O_3>TiO_2>ZrO_2の順であった。(4)このような特徴をもつ酸点はーMーOーSiーOHのような構造をもつものと推測した。金属カチオンM、Siの電子的特性の差によって酸性質が発現するのであろう。(5)通常の調製法によって得られるシリカアルミナ触媒に見られる炭化水素を分解する強い酸点は存在しないことがわかった。この研究結果から類推すると、シリカアルミナ触媒は幅の広い強度分布をもち、強い酸点はシリカ中にアルミナが置換固溶して生成するものであろう。

CVD(chemical vapor deposition) method is used to prepare the solution of Si(OCH_3)_4 on Al_2O_3, TiO_2 and ZrO_2 supports. The following is the result of the investigation. (1)The acid compound of the carrier is preferred to be evaporated, and more than 90% of the acid surface is coated. The second layer of the film is grown. (2)シリカモノレイヤ-は弱いBronsted酸をもつことがわかった。The intensity of the reaction is weak, the temperature of the reaction is low, and the temperature of the reaction is low. (3)Al_2O_3>TiO_2>ZrO_2 is the most important component in the synthesis of TiO_2. (4)The structure of this structure is supposed to be the same as that of the acid point. The difference in electronic properties of metal M and Si results in the development of acid properties. (5)Usually, the preparation method is used to obtain a mixture of carbon and hydrogen. The results of this study include: (1) the distribution of catalyst amplitude,(2) the distribution of catalyst strength,(3) the distribution of catalyst strength,(4) the distribution of catalyst strength,(5) the distribution of catalyst strength,(6) the distribution of catalyst strength,(7) the distribution of catalyst strength,(8) the distribution of catalyst strength,(9) the distribution of catalyst strength,(10) the distribution of catalyst strength,(9) the distribution of catalyst strength,(10) the distribution of catalyst strength,(

项目成果

M.Niwa: "Thin Silica Layer on Alumina:Evidence of the Acidity in the Monolayer" J.Phys.Chem.,. 94. 6441-6445 (1990)

M.Niwa：“氧化铝上的薄二氧化硅层：单层中酸性的证据”J.Phys.Chem.,。

片田 直伸: "CVD法によるSiO_2/MOx積層固体酸触媒の表面構造と酸性質" 触媒. 32. 59-62 (1990)

Naonobu Katada：“CVD法制备的SiO_2/MOx堆叠固体酸催化剂的表面结构和酸性质”，催化，32. 59-62（1990）。