紫外光激发 CVD 法绝缘膜沉积过程的阐明和模拟-猫眼课题宝

紫外光激发 CVD 法绝缘膜沉积过程的阐明和模拟

批准号：

02750012

负责人：

吉本昌広

金额：

$0.64万

依托单位：

Kyoto University

依托单位国家：

日本

项目类别：

Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)

财政年份：

1990

资助国家：

日本

项目状态：

已结题

起止时间：

1990 至 --

来源：

https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-02750012/

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会议论文

原料ガスの選択光励起による高品質窒化シリコンの推積と量子界面構造の形成

批准号：

07750037
项目类别：

Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
资助金额：

$0.64万
财政年份：

1995
负责人：

吉本昌広
依托单位：

Kyoto University

レーザ誘起原子層エピタキシーによる純正III-V族半導体結晶の製作

批准号：

05650301
项目类别：

Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
资助金额：

$1.28万
财政年份：

1993
负责人：

吉本昌広
依托单位：

Kyoto University

有機金属分子線成長法による光素子用ワイドギヤップ材料窒化ガリウムの純正結晶の製作

批准号：

04650267
项目类别：

Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
资助金额：

$1.28万
财政年份：

1992
负责人：

吉本昌広
依托单位：

Kyoto University

真空紫外光CVD法による真性アモルファスシリコンの堆積とその物性

批准号：

01750017
项目类别：

Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
资助金额：

$0.51万
财政年份：

1989
负责人：

吉本昌広
依托单位：

Kyoto University