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SiGe薄膜への超高濃度ドーピングに関する研究

SiGe薄膜への超高濃度ドーピングに関する研究
SiGe薄膜超高浓度掺杂研究
批准号：
02750206
负责人：
山田 明
金额：
$0.58万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1990
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1990 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-02750206/
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ユーザブルセキュリティの大規模言語モデル応用: 仮想的回答者によるインサイト探索
  • 批准号：
    24K14946
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $3.0万
  • 财政年份：
    2024
  • 负责人：
    山田 明
  • 依托单位：
    Kobe University
Studies on the deterioration characteristics of traditional mud walls subjected to multiple earthquakes and reinforcement techniques using additional stiffness element in the plastic region
  • 批准号：
    23K04131
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $2.58万
  • 财政年份：
    2023
  • 负责人：
    山田 明
  • 依托单位：
    Hiroshima Institute of Technology
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  • 批准号：
    15656082
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 资助金额：
    $2.18万
  • 财政年份：
    2003
  • 负责人：
    山田 明
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
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