磁界重畳型電界放出電子銃の装備による超低加速電子線プローブ応用装置の超高性能化
磁界重畳型電界放出電子銃の装備による超低加速電子線プローブ応用装置の超高性能化
批准号:
03402025
负责人:
下山 宏
金额:
$15.94万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (A)
财政年份:
1991
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1991 至 1993
中文摘要
本年度は、低加速電子線応用装置の代表的な応用分野である低加速走査型電子顕微鏡法(SEM)を主として行なうと共に、分光法と組み合わせた走査透過電子顕微鏡法(STEM)の可能性についても実験を行なった。1.2次電子検出器を前年度購入の走査像観察装置に取り付け、低加速SEMによるLSI等のマイクロ電子デバイスの非破壊検査法の実用性を確立させるための実験を行なった。LSI等の表面は、パッシベーション膜と呼ばれる電気的絶縁保護膜で覆われており、これを通常のSEMで直接観察するとチャージアップの影響を受け、正常な像観察ができない。しかし、加速電圧を1kV程度まで低くすることにより、チャージアップの障害なしに、表面の微細構造のみならず、膜下の電極に印加されている電位に対応したコントラスト像が得られること、このコントラストは観察中に徐々に消失してゆくが、消失に要する照射電子線量Dmは電極電位Vと比例関係にあることが判明した。このV-Dm特性はパッシベーション膜の膜厚、膜の材質に依存し、この関係を用いれば、試料上の任意の箇所の局所的電位の定量的測定が可能であることが明らかとなった。2.STEMでは、エネルギーアナライザを用いて薄膜試料を通り抜けてくる透過電子の分光(エネルギー分析)を行なうことにより、弾性散乱、非弾性散乱、非散乱の3種類の信号電子の同時・分離検出が可能である。本実験では、これらの信号電子間の演算処理(例えば、引き算処理や割り算処理)を行なった結果、試料の局所領域における元素分布の観察が可能であること、試料の厚さに依存しない原子番号に依存したコントラストが得られることもわかった。
英文摘要
本年度は、低加速電子線応用装置の代表的な応用分野である低加速走査型電子顕微鏡法(SEM)を主として行なうと共に、分光法と組み合わせた走査透過電子顕微鏡法(STEM)の可能性についても実験を行なった。1.2次電子検出器を前年度購入の走査像観察装置に取り付け、低加速SEMによるLSI等のマイクロ電子デバイスの非破壊検査法の実用性を確立させるための実験を行なった。LSI等の表面は、パッシベーション膜と呼ばれる電気的絶縁保護膜で覆われており、これを通常のSEMで直接観察するとチャージアップの影響を受け、正常な像観察ができない。しかし、加速電圧を1kV程度まで低くすることにより、チャージアップの障害なしに、表面の微細構造のみならず、膜下の電極に印加されている電位に対応したコントラスト像が得られること、このコントラストは観察中に徐々に消失してゆくが、消失に要する照射電子線量Dmは電極電位Vと比例関係にあることが判明した。このV-Dm特性はパッシベーション膜の膜厚、膜の材質に依存し、この関係を用いれば、試料上の任意の箇所の局所的電位の定量的測定が可能であることが明らかとなった。2.STEMでは、エネルギーアナライザを用いて薄膜試料を通り抜けてくる透過電子の分光(エネルギー分析)を行なうことにより、弾性散乱、非弾性散乱、非散乱の3種類の信号電子の同時・分離検出が可能である。本実験では、これらの信号電子間の演算処理(例えば、引き算処理や割り算処理)を行なった結果、試料の局所領域における元素分布の観察が可能であること、試料の厚さに依存しない原子番号に依存したコントラストが得られることもわかった。
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S.Yamada: "Comparative Study of Electron Counting and Conventional Analogue Detection of Secondary Electrons in SEM" J.Electron Microsc.41. (1992)
S.Yamada:“SEM 中二次电子的电子计数与传统模拟检测的比较研究”J.Electron Microsc.41。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
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作者:
[]
通讯作者:
日比野 倫夫: "薄膜レンズによる球面収差補正--3次と5次の球面収差を考慮した位相コントラスト伝達関数と単原子像コントラストのシミュレーション" 日本電子顕微鏡学会 高性能電子顕微鏡技術研究部会予稿集. 7-11 (1999)
日比野道雄:“使用薄膜透镜校正球面像差 - 考虑三阶和五阶球面像差的相衬传递函数和单原子图像对比度的模拟”日本电子显微镜学会高性能电子显微镜技术研究组论文集, 7.-11 (1999)
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作者:
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通讯作者:
池田 晋: "走査型電子顕微鏡による半導体素子の検査法" 名城大学理工学部研究報告. 33. 43-50 (1993)
池田进:“使用扫描电子显微镜的半导体器件的检查方法” 名城大学理工学院研究报告 33. 43-50 (1993)。
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作者:
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通讯作者:
M.Hibino: "Sideーentry Type Foil Lens for Correction of Spherical Aberration of Probeーforming Lens" Proc.6th ChineseーJapanese Electron Microscopy Seminar. (1991)
M.Hibino:“用于校正探针形成透镜球面像差的侧入式箔透镜”,第六届中日电子显微镜研讨会(1991)。
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作者:
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通讯作者:
H.Shimoyama: "Computer Simulation of the Energetic Boersch Effect in the Diode Region of the Field Emission Gun" J.Electron Microsc.41. (1992)
H.Shimoyama:“场发射枪二极管区域中能量 Boersch 效应的计算机模拟”J.Electron Microsc.41。
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发表时间:
期刊:
影响因子:
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作者:
[]
通讯作者:
共 15 条
電界放出形電子銃の研究
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批准号:X45210------5108
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.13万
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财政年份:1970
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负责人:下山 宏
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依托单位:
海外基金