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II族単原子層界面導入によるSi基板上のGaAs薄膜の高品質化
通过引入 II 族单层界面提高 Si 衬底上 GaAs 薄膜的质量
基本信息
- 批准号：03750014
- 负责人：
- 金额：$ 0.58万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份：1991
- 资助国家：日本
- 起止时间：1991 至 无数据
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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